掃描形貌測量顯微鏡是一種用於材料科學、機械工程領域的工藝試驗儀器,於2013年12月1日啟用。
基本介紹
- 中文名:掃描形貌測量顯微鏡
- 產地:日本
- 學科領域:材料科學、機械工程
- 啟用日期:2013年12月1日
- 所屬類別:工藝試驗儀器 > 加工工藝實驗設備 > 機加工工藝實驗設備
掃描形貌測量顯微鏡是一種用於材料科學、機械工程領域的工藝試驗儀器,於2013年12月1日啟用。
掃描形貌測量顯微鏡是一種用於材料科學、機械工程領域的工藝試驗儀器,於2013年12月1日啟用。技術指標最大倍率20000。1主要功能表面形貌測量。1...
掃描電子顯微鏡(scanning electron microscope,SEM)是一種用於高解析度微區形貌分析的大型精密儀器。具有景深大、解析度高,成像直觀、立體感強、放大倍數範圍寬以及待測樣品可在三維空間內進行旋轉和傾斜等特點。另外具有可測樣品種類豐富,幾乎不損傷和污染原始樣品以及可同時獲得形貌、結構、成分和結晶學信息等優點。目...
台式掃描電子顯微鏡(Desktop Scanning Electron Microscope)是一種體積小巧,可安放在實驗檯面上操作的電子顯微鏡。其原理和傳統(落地式)掃描電子顯微鏡相同。部件包括:電子發射、電磁透鏡、信號探測、真空系統、計算機控制系統。台式掃描電子顯微鏡用於各種樣品微細結構和特徵的形貌觀察,適用於生物樣品、醫學樣品、環境樣品...
針尖與樣品之間的作用力與距離有強烈的依賴關係,所以在掃描過程中利用反饋迴路保持針尖與樣品之間的作用力恆定,即保持為懸臂的形變數不變,針尖就會隨樣品表面的起伏上下移動,記錄針尖上下運動的軌跡即可得到樣品表面形貌的信息。這種工作模式被稱為“恆力”模式(Constant Force Mode),是使用最廣泛的掃描方式。AFM的...
雷射掃描顯微鏡是一種用於材料科學領域的物理性能測試儀器,於2014年11月25日啟用。技術指標 1、測試功能:PROFIEL 形貌測量(精度)、線粗糙度和面粗糙度測量、磨耗對比測量等。Z向測量顯示解析度0.5nm;重複精度:0.012um;X向測量顯示解析度1nm,重複精度:0.02um;測量高度範圍:0—7mm 2、掃描速度:面掃描:4...
場發射掃描電子顯微鏡(FESEM)是電子顯微鏡的一種。該儀器具有超高解析度,能做各種固態樣品表面形貌的二次電子像、反射電子象觀察及圖像處理。該儀器利用二次電子成像原理,在鍍膜或不鍍膜的基礎上,低電壓下通過在納米尺度上觀察生物樣品如組織、細胞、微生物以及生物大分子等,獲得忠實原貌的立體感極強的樣品表面超微...
台式掃描顯微鏡是一種用於生物學、農學、林學領域的分析儀器,於2014年12月31日啟用。技術指標 *2.1放大倍率:內置集成彩色光學顯微鏡,電子放大 80-100,000倍 *2.2背散射電子探測器解析度: 優於17nm 2.3加速電壓: 5kV—10kV連續可調 *2.4單根燈絲壽命:大於1500h; 2.5電子艙真空封鎖技術,每次換...
超高分辨掃描電子顯微鏡 超高分辨掃描電子顯微鏡是一種用於物理學、材料科學領域的分析儀器,於2017年12月22日啟用。技術指標 15 KV:解析度0.8nm(工作距離4nm),1 KV: 1.1 nm(減速模式),5軸馬達自動驅動。主要功能 表面形貌分析和測量,端面膜厚測量,圖形測量。
各點焦距差即得到物體的形貌高度數據;將雷射掃描出來的物體表面形貌圖像和彩色CCD拍攝的圖像合成一體,從而得到的真實彩色超景深3D圖像;利用408 nm雷射把物體的微觀細節掃描出來,從而可以得到比一般光學顯微鏡更清晰的圖像和可以得到更高的解析度;該顯微鏡可以在X-Y-Z實現10到20納米的重複測量精度,顯示解析度可達1 ...
≤133eV。最大輸入計數:>750,000cps,最大輸出計數:>500,000cps。主要功能 它可以進行材料的微觀形貌、組織、成分分析,各種材料的形貌組織觀察,材料斷口分析和失效分析,材料實時微區成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素麵掃描和線掃描分布測量,晶體、晶粒的相鑑定,晶粒尺寸,晶體、晶粒取向測量。
22.5mm;最大擴展視野範圍:10000mm2;最大單一方向掃描範圍:100mm;最小測量高度:0.01μm;最大測量高度:22.5mm;最大測量範圍:10000mm2;最大測量形貌長度:100mm;最小可重複性:0.001μm;最小測量粗糙度(Ra):0.03μm;最小測量粗糙度(Sa):0.015μm;最小測量半徑:1μm;最小測量垂直...
數位化掃描電子顯微鏡 數位化掃描電子顯微鏡是一種用於材料科學、化學工程領域的分析儀器,於2008年11月13日啟用。技術指標 解析度4.5nm,放大倍數5-250000倍。主要功能 對材料進行顯微形貌觀測,對微區元素進行分析。
綜合倍率 28000 倍以下,顯示解析度 0.5 nm,測量用408 nm雷射光源 光學系統:針孔共聚焦光學系統 光接收元件:光電倍增器、16 bit 感應 掃描方式 (常規測量時及圖像連線時):自動上下限設定功能 高速光量最佳化功能(AAG Ⅱ)反射光量不足補充功能(雙掃描)。主要功能 用於表面粗糙度、表面形貌等的測量。
掃描電子式顯微鏡 掃描電子式顯微鏡是日本生產的一種電子光學儀器,於2007年5月1日啟用。技術指標 理論放大倍數5~300000X解析度3.0nm。服務內容 1.電子零件顯微形貌觀察;2.薄膜厚度及微粒尺寸量測;3.錫須觀察分析;4.合金層IMC形貌觀察。
開爾文探針顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2013年9月2日啟用。技術指標 可持續穩定得到原子級圖像。用原子力顯微鏡模式對雲母樣品進行5-10nm範圍的掃描成像,測量圖像中相鄰雲母原子的間距值;要求測量值在:0.5-0.55nm範圍內。STM模式下對HOPG樣品進行10nm範圍內的掃描正確成像。主要功能 掃描物質形貌,...
電子掃描探針顯微鏡 電子掃描探針顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2003年12月1日啟用。技術指標 x,y方向解析度高於0.01nm, 縱向解析度高於0.05nm. 可以做原子分辨的成像。主要功能 測試納米材料樣品形貌、粒度及表面粗糙度等。
1.能夠實現掃描近場光學顯微鏡、原子力顯微鏡的探測、成像,可用於對樣品的微區表面近場光學信息、納米尺度形貌等的檢測以及微納表面結構加工技術研究。 2.具備掃描近場光學顯微鏡的多種工作模式,如:SNOM收集模式和剪下力模式等; 3.具有原子力顯微鏡的常用工作模式,如:接觸模式、半接觸模式、非接觸模式、摩擦力...
生物型掃描探針顯微鏡 生物型掃描探針顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2013年05月15日啟用。技術指標 x,y方向解析度高於0.01nm, 縱向解析度高於0.05nm. 可以做原子分辨的成像。主要功能 測試納米材料樣品形貌、粒度及表面粗糙度等。
納米及亞微米尺度)三維形貌;同時可對樣品表面物理化學特性進行研究,能測試多種材料如纖維材料、膜材料、生物材料、高分子材料等非金屬材料以及金屬材料、複合材料的多種物性,包括表面組分區別、溫度、表面電勢、磁場力、靜電力、摩擦力、電流、掃描隧道顯微鏡和其他表面力以及電化學相互作用力的測量。
電子顯微鏡按結構和用途可分為透射式電子顯微鏡、掃描式電子顯微鏡、反射式電子顯微鏡和發射式電子顯微鏡等。透射式電子顯微鏡常用於觀察那些用普通顯微鏡所不能分辨的細微物質結構;掃描式電子顯微鏡主要用於觀察固體表面的形貌,也能與X射線衍射儀或電子能譜儀相結合,構成電子微探針,用於物質成分分析;發射式電子顯微鏡...
掃描型探針顯微鏡 掃描型探針顯微鏡是一種用於工程與技術科學基礎學科、材料科學領域的分析儀器,於2003年11月1日啟用。技術指標 0.1nm/0.01nm。主要功能 形貌分析。
攜帶型電子掃描顯微鏡 攜帶型電子掃描顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2019年7月16日啟用。技術指標 二次電子解析度:≤4.0nm@20kV,15nm@1kV;背散射電子解析度:≤5.0nm@20kV(低真空);放大倍數:6~300000倍;五軸馬達台;X射線能譜儀。主要功能 微納結構表面形貌表征、X射線能譜分析。