低壓化學氣相沉積爐是一種用於機械工程領域的工藝試驗儀器,於2014年6月1日啟用。
基本介紹
- 中文名:低壓化學氣相沉積爐
- 產地:中國
- 學科領域:機械工程
- 啟用日期:2014年6月1日
- 所屬類別:工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備
低壓化學氣相沉積爐是一種用於機械工程領域的工藝試驗儀器,於2014年6月1日啟用。
低壓化學氣相沉積爐是一種用於機械工程領域的工藝試驗儀器,於2014年6月1日啟用。技術指標適用於4英寸矽片,25片每批 結構型式:三管臥式熱壁型 澱積薄膜及澱積膜均勻性優於(1500埃情況下): 澱積膜厚度: 600~2...
化學氣相沉積爐 《化學氣相沉積爐》是2015年10月1日實施的行業標準。適用範圍 本標準適用於化學氣相沉積。起草單位 湖南頂立科技有限公司、中國有色金屬工業標準計量質量研究所等。起草人 戴煜、 胡祥龍、 胡高健等。
廣義上講,化學氣相沉積反應器的設計可分成常壓式和低壓式,熱壁式和冷壁式。常壓式反應器運行的缺點是需要大流量攜載氣體、大尺寸設備,膜被污染的程度高;而低壓化學氣相沉積系統可以除去攜載氣體並在低壓下只使用少量反應氣體,此時,氣體從一端注入,在另一端用真空泵排出。因此,低壓式反應器已得到廣泛套用和...
真空化學氣相沉積爐 真空化學氣相沉積爐是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2012年01月01日啟用。技術指標 2100℃ 真空度5pa。主要功能 化學氣相沉積工藝的專用設備,主要用於大尺寸複合材料試件的製備。
常用的有常壓化學氣相澱積、低壓化學氣相澱積以及電漿增強化學氣相澱積等。原理 CVD是利用氣態物質在固體表面進行化學反應,生成固態沉積物的工藝過程。它一般包括三個步驟:(1)產生揮發性物質;(2)將揮發性物質輸運到沉積區;(3)於基體上發生化學反應而生成固態產物。技術分類 反應器是CVD裝置最基本的部件。根據反應...
電漿化學氣相沉積( plasma chemical vapor deposition)簡稱PCVD,是一種用電漿激活反應氣體,促進在基體表面或近表面空間進行化學反應,生成固態膜的技術。電漿化學氣相沉積技術的基本原理是在高頻或直流電場作用下,源氣體電離形成電漿,利用低溫電漿作為能量源,通入適量的反應氣體,利用電漿放電,...
基於管式爐PECVD的化學氣相沉積薄膜製備虛擬仿真實驗是貴州師範學院建設的虛擬仿真實驗課程。課程性質 課程背景 薄膜製備工藝在超大規模積體電路技術中有著非常廣泛的套用,按照其成膜方法河分為兩大類:物理氣相沉積(PVD)和化學氣相沉積( CVD)。等離子增強型化學氣相澱積( PECVD )是化學氣相澱積的一-種,其澱積溫度低是...
《化學氣相沉積反應爐中的排氣歧管》是艾克斯特朗歐洲公司於2017.04.05申請的專利,該專利的公布號為:CN109072429B,專利公布日:2021.06.15,發明人是:C.加勒夫斯基; S.E.薩瓦斯; M.穆基諾維克。 對比檔案 CN 1628368 A,2005.06.15; CN 102016118 A,2011.04.13; CN 102514214 A,2012.06...
氯化物高溫化學氣相沉積爐是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2015年11月12日啟用。技術指標 圓筒樣品加熱: 1. 加熱方式:採用輻射電阻加熱方式(圓柱石墨筒),實現樣品的加熱。圓柱石墨筒安裝在圓筒樣品內部; 2. 樣品加熱:樣品可加熱1000 oC,控溫精度±1 oC。主要功能 氯化物高溫化學氣相沉積系統主要用於...
電阻加熱爐 電阻加熱爐是一種用於化學領域的分析儀器,於2004年02月01日啟用。技術指標 爐管直徑4英寸,工作溫度200-1000度,低壓控制範圍0-2Torr。主要功能 低壓化學氣相沉積系統,最大可放4寸矽片。
利用低壓化學氣相沉積技術在相對較高的溫度下利用垂直或水平管式爐進行。電漿增強化學氣相沉積技術在溫度相對較低的真空條件下進行。氮化矽的晶胞參數與單質矽不同。因此根據沉積方法的不同,生成的氮化矽薄膜會有產生張力或應力。特別是當使用電漿增強化學氣相沉積技術時,能通過調節沉積參數來減少張力。先利用...
測試設備 FSM薄膜應力測量儀 Ocean Optics紫外干涉膜厚儀 測試區 測試設備 Zeiss Ultra Plus場發射掃描電子顯微鏡 Bruker ICON原子力顯微鏡 Agilent BA1500半導體參數測試儀與MM探針台 氧化擴散區 氧化擴散設備 SVCS臥式低壓化學氣相沉積爐管 SVCS臥式氧化擴散爐管 測試設備 CDResMap四探針電阻率/方塊電阻測試儀 ...
7.3 高密度電漿化學氣相沉積工藝性能評價/236 7.3.1 速率/236 7.3.2 膜層質量/238 7.3.3 顆粒與金屬污染/243 參考文獻/245 第8章 積體電路中的爐管工藝與裝備/248 8.1 積體電路中的爐管工藝/248 8.1.1 爐管氧化和退火工藝/249 8.1.2 爐管低壓化學氣相沉積工藝/251 8.1.3 爐管原子層...
3.6 氣相沉積 3.6.1 化學氣相沉積 3.6.2 PVD法的離子沉積 3.7 離子注入 3.8 鑄鐵件的熱處理 3.8.1 白口鑄鐵 3.8.2 可鍛鑄鐵 3.8.3 灰鑄鐵及球墨鑄鐵 3.9 有色金屬的熱處理 3.9.1 鋁合金的熱處理 3.9.2 銅合金的熱處理 3.9.3 鎂合金的熱處理 3.9.4 鈦合金的熱處理 3...
ICP-2B刻蝕機、AWB04鍵合機、MA6/BA6 Karlsuss雙面光刻機和鍵合機、POLI-400化學機械拋光機、WL2040鋁絲壓焊機、OPTI CAOT 22i噴塗膠機系統、ZSH406全自動劃片機、DQ-500等離子去膠機、全自動清洗甩乾機、AXTRON MOCVD金屬有機物化學氣相沉積系統、4470微控四管擴散爐、4371LPCVD低壓化學沉積系統、OMICRON分子...
ICP-2B刻蝕機、AWB04鍵合機、MA6/BA6 Karlsuss雙面光刻機和鍵合機、POLI-400化學機械拋光機、WL2040鋁絲壓焊機、OPTI CAOT 22i噴塗膠機系統、ZSH406全自動劃片機、DQ-500等離子去膠機、全自動清洗甩乾機、AXTRON MOCVD金屬有機物化學氣相沉積系統、4470微控四管擴散爐、4371LPCVD低壓化學沉積系統、OMICRON分子...
從低速到高速,從低壓到高壓,從室溫到高溫,均能滿足各種設備的要求。套用 隨著經濟的發展,國內外真空設備發展迅猛。在許多迴轉動密封裝置上,磁流體密封得到了廣泛的套用,例如在單晶矽爐、真空釺焊爐、真空熔煉爐、化學氣相沉積、離子鍍膜、液晶再生等真空設備的密封,以及高溫高壓設備及對環境要求較高的設備的密封。
第六節氣相沉積 一、化學氣相沉積 二、物理氣相沉積 三、氣相沉積層的特點 第七節真空熱處理 一、真空高壓氣淬 二、乙炔低壓滲碳 三、真空熱處理的特點及發展前景 第八節離子滲擴熱處理 一、離子注入 二、離子滲氮 三、離子滲碳 第九節其他熱處理技術 一、氮基可控氣氛熱處理 二、超細化熱處理 三、太陽能熱...
常用的碳納米管制備方法主要有:電弧放電法、雷射燒蝕法、化學氣相沉積法(碳氫氣體熱解法)、固相熱解法、輝光放電法、氣體燃燒法以及聚合反應合成法等。電弧放電法 電弧放電法是生產碳納米管的主要方法。1991年日本物理學家飯島澄男就是從電弧放電法生產的碳纖維中首次發現碳納米管的。電弧放電法的具體過程是:將...
化學氣相合成法 1979年Sokolowski成功利用脈衝電漿技術在低溫低壓下製備成立方氮化硼(CBN)膜。所用設備簡單,工藝易於實現,因此得到迅速發展。已出現多種氣相沉積方法。傳統來講主要是指熱化學氣相沉積。實驗裝置一般由耐熱石英管和加熱裝置組成,基體既可以通過加熱爐加熱(熱壁CVD),也可以通過高頻感應加熱(冷壁...
化學氣相合成法 1979年Sokolowski成功利用脈衝電漿技術在低溫低壓下製備成立方氮化硼(CBN)膜。所用設備簡單,工藝易於實現,因此得到迅速發展。已出現多種氣相沉積方法。傳統來講主要是指熱化學氣相沉積。實驗裝置一般由耐熱石英管和加熱裝置組成,基體既可以通過加熱爐加熱(熱壁CVD),也可以通過高頻感應加熱(冷壁CVD...
拋光矽表面的反射率為35%,為了減少表面反射,提高電池的轉換效率,需要沉積一層氮化矽減反射膜。工業生產中常採用PECVD設備製備減反射膜。PECVD即等離子增強型化學氣相沉積。它的技術原理是利用低溫電漿作能量源,樣品置於低氣壓下輝光放電的陰極上,利用輝光放電使樣品升溫到預定的溫度,然後通入適量的反應氣體SiH4和...
該手冊共11篇74章,內容包括:引論、表面精整及淨化、有機塗裝、熱噴塗(焊)、防鏽封存包裝、化學熱處理、氣相沉積、高能束(雷射束、電子束、離子束)、電鍍、轉化膜技術、表面塗(膜)層質量檢測技術、腐蝕防護與防腐工程設計和表面工程技術摩擦學工業套用等。附錄列出國內現行的表面工程有關標準目錄。可供機械、...
滾塑成型的交聯樹脂製品具有一系列重要的優點,例如較高的熱變形溫度(HDT)、較高的玻璃轉變溫度、較高的抗拉強度、較低的熱膨脹係數、較好的抗環境應力開裂性能(ESCR)、優異的耐候性、和突出的抗化學溶劑性能等等。多種聚合物樹脂都可用滾塑法成型,例如聚乙烯、聚碳酸酯、聚醯胺、聚氯乙烯等等,其中各種形式的聚...
《現代壓鑄技術實用手冊》是2021年化學工業出版社出版的圖書,作者是安玉良、黃勇、楊玉芳。內容簡介 本手冊是一本全面介紹壓鑄技術及生產工藝的工具書。“第1篇 壓鑄成型工藝與壓鑄機”闡述了壓鑄基本知識、壓鑄合金及其熔煉工藝、壓鑄件的設計、壓鑄機、壓鑄工藝及壓鑄件缺陷防治。“第2篇 壓鑄模設計”講解了壓鑄...
1.2.3固體表面的化學特性 1.2.4固體表面的邊界膜 1.2.5理想光滑表面的接觸應力計算 1.2.6實際粗糙表面的接觸 1.3摩擦原理 1.3.1摩擦的種類 1.3.2摩擦的機理 1.3.3摩擦係數的測量及影響因素 1.3.4摩擦引起的各種效應 1.4磨損原理 1.4.1疲勞磨損 1.4.2粘著磨損 1.4.3磨料磨損 1.4.4腐蝕...
此類樹脂具有高耐熱性和化學穩定性、阻燃性好,可提高組合物的CTI值。所述苯並惡嗪是由酚、醛及胺合成的一種含氮酚醛化合物,具有優異的耐熱性和阻燃性,其含氮結構與含磷環氧形成磷氮協同效應,提高產品的阻燃特性,選自BPA型苯並惡嗪、BPF型苯並惡嗪、DDM型苯並惡嗪中的一種或兩種以上混合。所述酚醛樹脂具有高...
加快研發增材製造、先進熔煉、凝固成型、氣相沉積、型材加工、高效合成等新材料製備關鍵技術。到2020年,優勢新材料產業達到國際先進水平。 新能源汽車及零部件產業。依託高端裝備及CNG、LNG裝備製造優勢,大力培育引進汽車產業化及零部件生產配套項目,積極發展整車品牌及配套零部件產品。依託明君汽車公司等重點企業,做強整車...