低壓化學氣相沉積爐

低壓化學氣相沉積爐

低壓化學氣相沉積爐是一種用於機械工程領域的工藝試驗儀器,於2014年6月1日啟用。

基本介紹

  • 中文名:低壓化學氣相沉積爐
  • 產地:中國
  • 學科領域:機械工程
  • 啟用日期:2014年6月1日
  • 所屬類別:工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備
技術指標,主要功能,

技術指標

適用於4英寸矽片,25片每批 結構型式:三管臥式熱壁型 澱積薄膜及澱積膜均勻性優於(1500埃情況下): 澱積膜厚度: 600~20000埃 主要工藝氣體:SiH4、SiH2Cl2、NH3、PH3 其中LTO採用TEOS熱分解製備 工作溫度範圍:550~950℃ 溫區長度及精度:≤±1℃/300mm 溫度梯度:0~30℃/300mm可調 系統極限真空度:優於1Pa。

主要功能

製備二氧化矽、氮化矽、磷矽玻璃和多晶矽薄膜。

相關詞條

熱門詞條

聯絡我們