真空化學氣相沉積爐

真空化學氣相沉積爐是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2012年01月01日啟用。

基本介紹

• 中文名：真空化學氣相沉積爐
• 產地：中國
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2012年01月01日
• 所屬類別：分析儀器 > 電子光學儀器

技術指標

2100℃ 真空度5pa。

主要功能

化學氣相沉積工藝的專用設備，主要用於大尺寸複合材料試件的製備。