《化學氣相沉積反應爐中的排氣歧管》是艾克斯特朗歐洲公司於2017.04.05申請的專利，該專利的公布號為：CN109072429B，專利公布日：2021.06.15，發明人是：C.加勒夫斯基; S.E.薩瓦斯; M.穆基諾維克。
基本介紹
- 中文名：化學氣相沉積反應爐中的排氣歧管
- 授權公告號：CN109072429B
- 授權公告日：2021.06.15
- 申請號：2017800276136
- 申請日：2017.04.05
- 專利權人：艾克斯特朗歐洲公司
- 地址：德國黑措根拉特
- 發明人：C.加勒夫斯基; S.E.薩瓦斯; M.穆基諾維克
- Int. Cl.：C23C16/44(2006.01)I; C23C16/455(2006.01)I; H01J37/32(2006.01)I
- 專利代理機構：北京市柳沈律師事務所11105
- 代理人：曲瑩
- 優先權：15/091,412 2016.04.05 US
- PCT進入國家階段日：2018.11.02
- PCT申請數據：PCT/EP2017/058044 2017.04.05
- PCT公布數據：WO2017/174618 EN 2017.10.12
對比檔案,專利摘要,
對比檔案
CN 1628368 A,2005.06.15; CN 102016118 A,2011.04.13; CN 102514214 A,2012.06.27; JP 特開2003-68711 A,2003.03.07
專利摘要
本發明提供一種用於從噴塗系統（尤其是化學氣相沉積（CVD）或物理氣相沉積（PVD）反應爐）中抽取工藝氣體的裝置，其包括具有流道的排氣歧管（1），其中所述流道包括吸氣口（2）、在流動方向（S）上的鄰接抽氣段（3）、以及在流動方向（S）上布置在抽氣室（3）的下游並通入吸氣管線（4、4'、4"）的真空泵口（20、20'，20"）的集氣段（5），其中吸氣口（2）的沿長邊方向（L）延伸的長度顯著大於沿窄邊方向（W）延伸的寬度，並且其中抽氣室（3）和集氣室（5）由沿長邊方向（L）延伸的長側壁（6、8）和沿窄邊方向（W）延伸的窄側壁（7）限定，該限定方式使得因吸氣管線（4、4'、4''）中產生的負壓而在流道中形成氣流。在抽氣段（3）和集氣段（5）之間的至少一個中間空間（9）中設有阻流結構，該阻流結構在位於兩個邊緣區域（R）之間的中央區域（Z）中對氣流施加的流動阻力比在邊緣區域（R）中施加的流動阻力大。
