離子刻蝕機是一種用於物理學領域的分析儀器，於1999年12月01日啟用。
基本介紹
- 中文名：離子刻蝕機
- 產地：英國
- 學科領域：物理學
- 啟用日期：1999年12月01日
- 所屬類別：分析儀器 > 電子光學儀器
技術指標,主要功能,
技術指標
極限真空小於10e-4pa,刻蝕砷化鎵速率0.6um/min。
主要功能
刻蝕砷化鎵、金。
離子刻蝕機
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