深反應離子刻蝕機

深反應離子刻蝕機是一種用於信息科學與系統科學、電子與通信技術領域的電子測量儀器，於2018年8月6日啟用。

基本介紹

• 中文名：深反應離子刻蝕機
• 產地：中國
• 學科領域：信息科學與系統科學、電子與通信技術
• 啟用日期：2018年8月6日
• 所屬類別：電子測量儀器

技術指標

PlasmaPro100 Estrelas。

主要功能

淺刻蝕或者深刻蝕矽材料。