反應離子刻蝕機台

反應離子刻蝕機台是一種用於電子與通信技術、信息與系統科學相關工程與技術、航空、航天科學技術領域的工藝試驗儀器，於2017年09月21日啟用。

基本介紹

• 中文名：反應離子刻蝕機台
• 產地：日本
• 學科領域：電子與通信技術、信息與系統科學相關工程與技術、航空、航天科學技術
• 啟用日期：2017年09月21日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備

技術指標

1. 高選擇性各向異性腐蝕，符合苛刻的製程要求； 2. 全自動一鍵操作完全代替手動操作； 3. 易於使用的電腦觸屏的參數控制和配方輸入和存儲； 4. 晶圓尺寸達8英寸直徑，圓滑、緊湊的設計使用最少的潔淨室空間； 5. RIE-10NR設計用於蝕刻氮化物、氧化物和任意需要氟基化學的薄膜或基片。其安裝在節省空間的平台上的模組化設計，使其成為全世界許多用戶的首選系統；。

主要功能

全面開發出各種工藝，用於對使用氟基化學的材料進行各向同性和各向異性蝕刻，其中包括：碳、環氧樹脂、石墨、銦、鉬、氮氧化物、光阻劑、聚醯亞胺、石英、矽、氧化物、氮化物、鉭、氮化鉭、氮化鈦、鎢鈦以及鎢。