台式反應離子刻蝕機

台式反應離子刻蝕機是一種用於自然科學相關工程與技術領域的工藝試驗儀器，於2014年11月01日啟用。

基本介紹

• 中文名：台式反應離子刻蝕機
• 產地：美國
• 學科領域：自然科學相關工程與技術
• 啟用日期：2014年11月01日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 電子產品通用工藝實驗設備

技術指標

帶有8英寸底電極的Sirus T2反應裝置； 系統控制器(包括一套電腦系統和觸控螢幕界面)； 四個氣體流量控制器； 與13.56 MHz 600瓦的射頻發生器自動調諧； 緊急關機系統； 自動壓力控制套件(蝶形閥，帶測量壓力的電容式壓力計)；。

主要功能

該儀器將用於用於矽、二氧化矽、氮化矽、石英、聚醯亞胺、鉭、鎢、鎢、鈦以及其他要求特徵控制、高度選擇性和良好一致性的材料進行蝕刻，用於IC設計製造及MEMS技術中等。將對超聲換能器的製作起很大作用。同時還可以面向合作企業開放，建立為學校和企業共同服務的平台，實現產學研之間的資源共享。