反應離子蝕刻機

反應離子蝕刻機是一種用於機械工程領域的工藝試驗儀器，於2015年10月1日啟用。

基本介紹

• 中文名：反應離子蝕刻機
• 產地：中國
• 學科領域：機械工程
• 啟用日期：2015年10月1日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備

技術指標

1.極限真空： 4.0×10-4 Pa2.刻蝕材料: Poly-Si、Si、SiO2、Si3N4、Au、Al、GaN、GaAs等3.真空室規格: φ300?100，4.電極尺寸: φ200mm5.刻蝕速率： 0.1 ? 1μ/min。

主要功能

用於MEMS淺槽刻蝕工藝。