全自動離子束刻蝕機是一種用於物理學、電子與通信技術領域的工藝試驗儀器，於2014年7月1日啟用。
基本介紹
- 中文名：全自動離子束刻蝕機
- 產地：中國
- 學科領域：物理學、電子與通信技術
- 啟用日期：2014年7月1日
- 所屬類別：工藝試驗儀器 > 加工工藝實驗設備 > 電加工工藝實驗設備
技術指標,主要功能,
技術指標
1. 刻蝕室真空度極限：≤9×10-5Pa 2. 刻蝕材料：各種金屬薄膜、硬質薄膜等 3. 刻蝕速率：≥100 - 2000À/min (與刻蝕材料和工藝有關) 4. 離子源： 口徑 12cm射頻離子源。 5. Ar+離子能量範圍：100 - 1000eV 6. 離子束功率密度：1w/cm2 7. 離子束流密度： 1mA/cm2 8. 離子束有效直徑：≥75mm 9. 刻蝕工作檯（最大刻蝕面積）：15cm 10. 工作檯旋轉方式：自轉 0 - 30rpm。 11. 刻蝕角度：可調節，傾角調整角度 0 - 90°。 12. 刻蝕距離：可調節，調節範圍18-22cm。 13. 刻蝕不均勻性：±5%（Φ3英寸範圍內） 14. 電源穩定度：±1%。
主要功能
可實現對金屬膜、化合物膜、硬質膜等各種薄膜材料進行高性能幹法刻蝕。
