反應離子刻蝕機

反應離子刻蝕機是一種用於信息科學與系統科學、材料科學領域的工藝試驗儀器，於2016年9月30日啟用。

基本介紹

• 中文名：反應離子刻蝕機
• 產地：德國
• 學科領域：信息科學與系統科學、材料科學
• 啟用日期：2016年9月30日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備

技術指標

反應離子刻蝕機在射頻電源驅動下，在上下電極間形成電壓差、產生輝光放電，反應氣體分子被電離生成電漿；根據功率、氣體、襯底材料等不同條件，電漿中的游離基與被刻蝕的材料發生化學反應，生成能夠由氣流（真空系統）帶走的揮發性化合物，而被光刻膠或介質掩膜所覆蓋的襯底材料，則沒有產生上述化學反應，從而實現各向異性刻蝕。

主要功能

本底真空≤ 1 × 10-5 mbar2. *下電極冷卻：水冷，配置單獨外置熱交換器3. *上電極中央配置光學石英視窗，可用於原位檢測4. *射頻發生器採用AE等國際著名品牌，頻率13.56MHz，功率≥ 600W5. *渦輪分子泵採用Leybold、Pfeiffer或Edwards等國際著名品牌，分子泵抽速≥ 150L/s6. *五路工藝氣體：Ar, O2, SF6 , CHF3, CF47. *氣路櫃中的質量流量計到反應腔的距離不超過100cm，以保證快速氣體切8. 可通過網際網路連線設備各個組件、進行遠程診斷和遠程服務。