聚焦離子束刻蝕系統

聚焦離子束刻蝕系統是一種用於信息與系統科學相關工程與技術領域的工藝試驗儀器，於2016年6月13日啟用。

基本介紹

• 中文名：聚焦離子束刻蝕系統
• 產地：德國
• 學科領域：信息與系統科學相關工程與技術
• 啟用日期：2016年6月13日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 加工工藝實驗設備 > 電加工工藝實驗設備

技術指標

1、可以沉積Pt、SiO2， 同時可以加速刻蝕有機物；2、離子束解析度優於5nm，加速電壓0-30KV；3、I2、XeF2刻蝕源，Pt、SiO2沉積源。

主要功能

通過離子束在基底上刻蝕微納，具有氣體輔助刻蝕與沉積功能。同時可對樣品進行表面形貌表征。