聚焦離子束刻蝕沉積系統

聚焦離子束刻蝕沉積系統是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2010年11月18日啟用。

基本介紹

• 中文名：聚焦離子束刻蝕沉積系統
• 產地：美國
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2010年11月18日
• 所屬類別：分析儀器 > 樣品前處理及製備儀器

技術指標

電子束電壓範圍：350 V—30 kV；離子束電壓範圍：500 V—30 kV 電子束解析度 @束交點：0.9 nm @ 15 kV，1.6 nm@ 5 kV，2.5 nm @ 1 kV 離子束解析度 @束交點：5.0 nm @30 kV。

主要功能

聚焦離子束加工與沉積 晶體取向測試 納米機械手操作 原位力學測試。