光刻膠顯影

用化學顯影液溶解由曝光造成的光刻膠的可溶解區域稱為光刻膠顯影。

基本介紹

  • 中文名:光刻膠顯影
  • 外文名:resist develop
光刻膠顯影的主要目的是把掩模版圖形準確複製到光刻膠中。顯影的仔汽榜白要燥民求重點是產生的關鍵尺寸達到規格要求,如果CD達到了規格要求,那么所設犁主有的特徵都認為是可以接受的,因為CD是光刻膠顯影中最困難的結構。
如果不正確地控制顯影工藝,光刻膠圖形就會出現問題這些光刻膠問題對產品成品率會產生消極影響,在隨後的刻蝕工藝中暴露缺陷。光刻膠顯影的三個主要類型問題是:顯影不足、不完全顯影和過顯影,如圖1所示,顯影不足祝幾贈的線條比正常線條凶樂辣付要寬並且在側面有斜坡;不完全顯影戶歡挨在襯底槓充刪上留下應該在顯影中去掉的剩餘光刻膠;過顯影除去了太多的光刻膠,引起圖形變窄和拙劣的外形。
圖1 光刻膠顯影問題圖1 光刻膠顯影問題

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