顯影液指的是洗相片時適用的化學藥劑，主要成分有硫酸、硝酸及苯、甲醇、鹵化銀、硼酸、對苯二酚等。有毒，不可直接接觸肌膚，會嚴重腐蝕。
基本介紹
- 中文名：顯影液
- 溫水： 30~45℃
- 無水亞硫酸鈉： 45g
- 米吐爾： 3g
主要成分,用途,配方,參數,常見問題,
主要成分
硫酸、硝酸及苯、甲醇、鹵化銀、硼酸、對苯二酚等
用途
銀鹽膠片顯影用的藥液稱顯影液。
通過對各組分不同用量的調配可以得到不同性能的顯影液，如微粒顯影液、高反差顯影液等。
工業上說的顯影劑，是針對半導體晶片而言。系列有顯影劑、光刻膠等。
配方
D-7 顯影液 （底片、相紙通用）
溫水 30~45℃ 750ml
米吐爾 3g
無水亞硫酸鈉 45g
無水碳酸鈉 67.5g
溴化鉀 2g
D-76型 粒顯影液 （底片用）
溫水 52℃ 750ml
米吐爾 2g
無水亞硫酸鈉 100g
對苯二酚（幾奴尼） 5g
硼砂 2g
D-19型 高反差強力顯影液 （全息用）
溫水 50℃ 800ml
米吐爾 2g
無水亞硫酸鈉 90g
無水碳酸鈉 48g
溴化鉀 5g
註：將藥劑依次溶於溫水後，加水至1000ml。
參數
顯影液的濃度是指顯影劑的相對含量，即NaOH、Na2SiO3總含量。市場上銷售的顯影液多是濃縮型液體，使用時需要按比例稀釋，顯影液的濃度多以顯影液的稀釋比來表示。在其他條件不變的前提下，顯影速度與顯影液濃度成正比關係，即顯影液濃度越大，顯影速度越快。 當溫度22℃，顯影時間為60秒時，PD型顯影液濃度對PS版性能的影響見表1（略）。從表中數據可看出，以3級乾淨為準的曝光量，PD型顯影液濃度以1∶6為最佳。 當顯影液濃度過大時，往往因顯影速度過快而使顯影操作不易控制；特別是它對圖文基礎的腐蝕性增強，容易造成網點縮小、殘損、亮調小網點丟失及減薄塗層，從而造成耐印力下降等弊病；同時空白部位的氧化膜和封孔層也會受到腐蝕和破壞，版面出現發白現象，使印版的親水性和耐磨性變差。顯影液濃度大，還易有結晶析出。 當顯影液的濃度偏低時，鹼性弱，顯影速度慢，易出現顯影不淨、版面起髒、暗調小白點糊死等現象。
常見問題
a、顯影不完全（Incomplete Development）。表面還殘留有光刻膠。由顯影液不足造成。
b、顯影不夠（Under Development）。顯影的側壁不垂直。由顯影時間不足造成。
c、過度顯影（Over Development）。靠近表面的光刻膠被顯影液過度溶解，形成台階。由顯影時間太長造成。
