光刻膠敏感性

光刻膠敏感性(resist sensitivity)是指光刻膠對曝光劑量的敏感程度，它是由材料本身的性質決定的，與曝光的波長及工藝參數有關，如烘烤的溫度和時間。

基本介紹

• 中文名：光刻膠敏感性
• 外文名：resist sensitivity

簡介

光刻膠敏臘臘仔感性可以希槓墊用對比度曲線（己充求膠contrast curve）來定量描述。圖1是光刻膠對比度鑽陵曲線項影懂示意圖，它是顯影後殘留在晶圓表面船船擔付的光刻膠厚度隨著曝光劑量變化的曲線。對於正膠，隨著曝光劑量匙套汗的增大，達到一個臨界值後，顯影后光刻膠的厚度開始減小。隨後殘留的光刻膠厚度隨著曝光劑量的增大基本上是線性的，一直到曝光劑量D2時，光刻膠完全消失。光刻膠厚度變化越快表明光刻膠敏感性越顯著。

圖1 光刻膠對比度曲線