基腳(光學光刻中的一種現象)

基腳(光學光刻中的一種現象)

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“footing”是指在光刻工藝中由於顯影不充分等原因導致光刻膠圖形底部寬大的現象。

基本介紹

  • 中文名:光刻膠圖形底部寬大
  • 外文名:footing
產生原理:
光刻膠對曝光的靈敏度可以由對比度曲線表示,如圖1所示,對比度曲線可以分成四個區域,暗區:曝光劑量很小,光刻膠厚度變化主要由便面成分的溶解造成的;肩部:光刻膠隨曝光計量的增大緩慢變薄;線性區;底部。
圖1 光刻膠對比度曲線圖1 光刻膠對比度曲線
圖2(a)是一個掩模曝光的示意圖,在掩模圖形的邊緣,投射在光刻膠上的曝光強度從遮光處的0增大到透光處的最大值,再由最大值減小到另一邊遮光處的0.由於邊緣處的光學效應,光強的變化並不是光刻工藝所期望的陡變,而是一個漸變,如圖2(b)所示。這種漸變的光強投影在光刻膠上,顯影后得到的圖形如圖2(c)所示,對比度曲線上的“肩部”對應於光刻膠圖形的"top-rounding"。
對比度曲線上的限行區域對應於光刻膠圖形的側壁。對比度曲線上的“肩部”越明顯,光刻膠的“top-rounding”也就越明顯。對比度越高,光刻膠圖形的側壁就越陡直。對比度曲線上的底部對應於光刻膠圖形的footing,對比度曲線上,底部越明顯的光刻膠,其圖形中的footing現象就越明顯。
圖2 (a)掩模(b)曝光時光強分布示意圖(c) 顯影后光刻膠剖面圖圖2 (a)掩模(b)曝光時光強分布示意圖(c) 顯影后光刻膠剖面圖

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