正型光刻膠

正型光刻膠 由光分解劑和鹼性可溶性樹脂及溶劑組成，為重氮茶醒磺酸醋及線性酚醛製成。

基本介紹

• 中文名：正型光刻膠

在受紫外光照射後光照區光分解劑發生分解，溶於有機或無機鹼性水溶液.未曝光部分被保留下來，與母版形成相同的圖形。該品為墟拍色液體。易溶於醚、酯、酮等有機溶劑，其特點是分辭率好，可以獲得亞微米級線寬圖形。由於感光速度快，可用於投影曝光和分步重複曝光。在相對濕度50%的環境，護對氧化矽、多晶矽以及鋁、銅、金、鉑等均有很好的茹附性和抗蝕性:其顯影和曝光操作寬容度狡、易於剝離，且耐熱性好、可以耐140℃的烘烤，圖形不變形。本品適用於大規模積體電路和電子元器件及光學機械加工工藝的製作。