基本介紹
- 中文名:正型光刻膠表面處理劑
正型光刻膠表面處理劑 主要成分為六甲基矽胺烷及異丙醇:乖今法明液體。易燃,可消除親水氧化物表面的輕基,以增加膠膜與襯底表面的薪附性.適用於正型光刻膠塗敷前的表面處理。
正型光刻膠表面處理劑 主要成分為六甲基矽胺烷及異丙醇:乖今法明液體。易燃,可消除親水氧化物表面的輕基,以增加膠膜與襯底表面的薪附性.適用於正型光刻膠塗敷...
正型光刻膠顯影劑 主要成分為氫氧化鈉與有機胺。為無色透明的鹼性水溶液。用作正型光刻膠的顯影劑。 ...
正型光刻膠 由光分解劑和鹼性可溶性樹脂及溶劑組成,為重氮茶醒磺酸醋及線性酚醛製成。...
正性光刻膠也稱為正膠。正性光刻膠樹脂是一種叫做線性酚醛樹脂的酚醛甲醛,提供光刻膠的粘附性、化學抗蝕性,當沒有溶解抑制劑存在時,線性酚醛樹脂會溶解在顯影...
正型光刻膠去膜劑 主要成分為苯酚、丙酮和有機胺。棕色油狀液體,易燃。...... 正型光刻膠去膜劑 主要成分為苯酚、丙酮和有機胺。棕色油狀液體,易燃。...
正型光刻膠稀釋劑 主要成分為醚及醋。無色透明的有機溶劑。易燃,易吸水,應在乾燥、遠離火源處存放。可用作調整正型光刻膠膠液濃度的稀釋劑。 ...
膠黏劑套用性能及粘接質量檢驗等,兼顧膠黏劑的組成...2.5 被粘材料的表面處理2.5.1 表面特性對粘接強度...17 9光刻膠黏劑50117 9 1紫外負性光刻膠黏劑...
多次完成國防科工委下達的急需軍品配套化學品的研製工作,先後組織並參與研製出金屬表面處理劑系列產品、反轉光刻膠、表面活化劑等數十個產品,為保證我國軍品生產的...