正型光刻膠去膜劑 主要成分為苯酚、丙酮和有機胺。棕色油狀液體,易燃。
基本介紹
- 中文名:正型光刻膠去膜劑
正型光刻膠去膜劑 主要成分為苯酚、丙酮和有機胺。棕色油狀液體,易燃。
正型光刻膠去膜劑 主要成分為苯酚、丙酮和有機胺。棕色油狀液體,易燃。...... 正型光刻膠去膜劑 主要成分為苯酚、丙酮和有機胺。棕色油狀液體,易燃。...
特性 主要成分為苯酚加瘩劑。紅色透明液體。能與水、}} }* i} }riJ互溶.有毒且有腐蝕性。適用於去除負型光刻膠光刻後的膠膜以及同類型光刻膠膜的去除 ...
正型光刻膠表面處理劑 主要成分為六甲基矽胺烷及異丙醇:乖今法明液體。易燃,可消除親水氧化物表面的輕基,以增加膠膜與襯底表面的薪附性.適用於正型光刻膠塗敷...
正性光刻膠也稱為正膠。正性光刻膠樹脂是一種叫做線性酚醛樹脂的酚醛甲醛,提供光刻膠的粘附性、化學抗蝕性,當沒有溶解抑制劑存在時,線性酚醛樹脂會溶解在顯影...
正型光刻膠顯影劑 主要成分為氫氧化鈉與有機胺。為無色透明的鹼性水溶液。用作正型光刻膠的顯影劑。 ...
正型光刻膠 由光分解劑和鹼性可溶性樹脂及溶劑組成,為重氮茶醒磺酸醋及線性酚醛製成。...
光刻負膠,樹脂是聚異戊二烯,一種天然的橡膠;溶劑是二甲苯;感光劑是種經過曝光後釋放出氮氣的光敏劑,產生的自由基在橡膠分子間形成交聯。從而變得不溶於顯影液。...
(前者稱正性光刻膠,後者稱負性光刻膠),使掩膜版上的圖形被複製到光刻膠...微米級圖形的光複印技術除要求先進的曝光系統外,對抗蝕劑的特性、成膜技術、...
正性光刻膠,樹脂是一種叫做線性酚醛樹脂的酚醛甲醛,提供光刻膠的黏附性、化學抗蝕性,當沒有溶解抑制劑存在時,線性酚醛樹脂會溶解在顯影液中;感光劑是光敏化合物...
一般光}}l膠由成膜材料、光敏材料、溶劑及添加劑等組成,光刻膠可按顯影后在光刻膠塗膜上所形成的圖形與掩模圖形關係分為正負型兩種,與掩模圖形相合的為正性...