光致抗蝕劑及其配套化學品phntoresist agent and its con-r}letc set ehetnicals光致抗蝕劑又稱光刻膠，它是一腫光敏高分子聚合物。當它受到光能照射時，分子內部發生聚合或分解反應，電子一工業在微細加工中利用這種特性能得到所需的幾何圖形。光刻膠具有光化學、抗蝕、一定的機械及耐熱特性，使用範圍已愈來愈廣，除在電子工業使用外，還能用於印611工業仁}，凸版的刻蝕、電鍍1業中的保護層、精密儀器力f.}中的光柵、應力片、鐘錶加工等。一般光}}l膠由成膜材料、光敏材料、溶劑及添加劑等組成，光刻膠可按顯影后在光刻膠塗膜上所形成的圖形與掩模圖形關係分為正負型兩種，與掩模圖形相合的為正性光刻膠，反之為負性光刻膠。義可按曝光光源類型分成紫外光刻膠及輻射光刻膠。在光刻過程中所使用的顯影劑、去膜劑、漂洗劑及稀釋齊」統稱光刻膠配套化學品門
