光加工用高分子材料

光加工用高分子材料polymeric material for nprie"al prn二、光加下是指以可見紫外光、X襯線、電子束、或者離子束作為加工手段的材料處理工藝，具有加工精度高，容易自動化等特點，廠一泛用r積體電路和印刷電路板製造、印刷製版等領域。光加[用高分子材料指在光作用卜材料物性或外形發生變化，以實現對被照材料本身或者被其覆蓋材料加工處理的聚合材料。在這類材料中最重要的是在積體電路、雷射照排製版和印刷電路製備中使用的光刻膠。根據光與聚合物之問發生的作用機理不同，可以分成光聚合或光交聯型光刻膠，也稱為負性光刻膠;光分解型光刻膠，也稱為正性光刻膠除了光刻膠之外，光敏塗料，光敏膠等在1“一義上也屬於光加T高分子材料。採用雷射引發聚合直接將聚合物零件加工成型的方法也引起工業界的廣泛關注，成為結構複雜高分子零部件光加工用高分子材料中的重要成員，其特點是擺脫了模具束縛，司以完全由計算機設計、控制加工。