X光電子能譜是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2015年6月16日啟用。
基本介紹
- 中文名:X光電子能譜
- 產地:中國
- 學科領域:材料科學
- 啟用日期:2015年6月16日
- 所屬類別:分析儀器 > X射線儀器 > X射線能譜儀
X光電子能譜是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2015年6月16日啟用。
X射線光電子能譜學(英文:X-ray photoelectron spectroscopy,簡稱XPS)XPS主要套用是測定電子的結合能來鑑定樣品表面的化學性質及組成的分析,其特點在光電子來自表面10nm以內,僅帶出表面的化學信息,具有分析區域小、分析深度淺和不破壞...
X光電子能譜是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2015年6月16日啟用。技術指標 電子槍發射的電子最高能量≥1000 eV,能量解析度>0.5%。 微聚焦單色化XPS,高精度鑑別化學態; 全自動操作,快速準確地分析表面化學表征; 高靈敏度...
X射線光電子能譜分析(X-ray photoelectron spectroscopy, XPS)是用X射線去輻射樣品,使原子或分子的內層電子或價電子受激發射出來。被光子激發出來的電子稱為光電子,可以測量光電子的能量,以光電子的動能為橫坐標,相對強度(脈衝/s)為...
Auger電子能譜法:屬於二次電子能譜法。多用於對固體,或凝聚態物質進行元素和價態的分析。圖譜簡單,儀器要求較高。常用來和X射線光電子能譜,螢光光譜,互補聯合使用。儀器組成 光電子能譜儀主要由6個部分組成:激發源、樣品電離室、...
X射線電子能譜 X射線電子能譜是一種用於化學領域的分析儀器,於2005年10月25日啟用。技術指標 空間解析度(um):500um,能量解析度小於0.06,靈敏度:100000。主要功能 XPS,UPS。
X射線光電子能譜因對化學分析最有用,因此被稱為化學分析用電子能譜(Electron Spectroscopy for Chemical Analysis).系統組件 一台商業製造的XPS系統的主要組件包括:X射線源 超高真空不鏽鋼艙室及超高真空泵 電子收集透鏡 電子能量分析儀...
X光電子能譜儀是一種用於能源科學技術領域的分析儀器,於2010年10月1日啟用。技術指標 最佳能量解析度<30 μm,最佳能量解析度<0.5 eV FWHM,C1s能量解析度<0.85 eV,離子源能量範圍:100 eV至3 keV,最大束流:4 μA,在...
X射線光電子能譜法是2016年公布的化學名詞。定義 超高真空條件下,用電子能譜儀測量X射線光子輻照樣品表面時所發射的光電子及俄歇電子能量分布,以此測定周期表中除氫、氦以外所有元素及其化學態的一種非破壞性表面分析方法。出處 《化學...
x射線光電子譜是一種用於數學領域的分析儀器,於2008年12月1日啟用。技術指標 真空度5×10^(-8) PaX射線源射線能量:1486.6 eV (Al Kα line), 1253.6 eV (Mg Kα line);能量半高寬:0.85 eV (Al Kα line), 0....
由此可見,內殼層電子的能譜分析是研究化學鍵和進行化學分析的有效手段。X射線也能激發出外殼層電子,對檢測輕重元素都相當有效。用X射線作為激發源的電子能譜,稱為X光電子能譜。此外,用紫外光作為激發源的稱為紫外光電子能譜,它...
1. 表面定性與定量分析. 可得到小於10um 空間解析度的X射線光電子能譜的全譜資訊。2. 維持10um以下的空間解析度元素成分包括化學態的深度分析(角分辨方式,,氬離子或團簇離子刻蝕方式)3. 線掃描或面掃描以得到線或面上的元素或化學...
電子能譜分析方法是20世紀70年代以來迅速發展起來的表面成分分析方法。這種方法是對用光子(電磁輻射)或粒子(電子、離子、原子等)照射或轟擊材料(原子、分子或固體)產生的電子能譜進行分析的方法。其中俄歇電子能譜、光電子能譜、X...
《X射線光電子能譜分析方法通則(GB/T 19500-2004)》提出單位:全國微束分析標準化委員會。本標準歸口單位:全國微束分析標準化委員會。本標準負責起草單位:北京大學化學與分子工程學院。本標準主要起草人:黃惠忠。本標準參加起草人:...
X射線光電子能譜小面積分析法(small area analysis by X-ray photoelectron spectroscopy)是2016年全國科學技術名詞審定委員會公布的化學名詞。定義 通過降低能量分析器輸入透鏡光闌或縮小入射X射線束徑,只接收樣品表面小面積出射的光電子...
近常壓x射線光電子能譜是一種用於物理學、化學領域的分析儀器,於2017年12月1日啟用。技術指標 EnviroESCA是一台能原位監測樣品表面性質動態變化的XPS儀器。其能量分析器的半徑為150mm,型號為SPECS PHOIBOS EP,採用單色化的鋁Kα作為...
多功能X射線光電子能譜儀是一種用於物理學、生物學、基礎醫學、臨床醫學領域的分析儀器,於2018年1月22日啟用。技術指標 1. 分析室真空度:5×10-10 mbar 2. 最佳能量解析度:0.43eV 3. 最小空間解析度:1μm4. Ag的3d5/2...
角分辨X射線光電子能譜儀是一種用於材料科學、化學、物理學、化學工程領域的分析儀器,於2016年12月29日啟用。技術指標 單色化Al靶、雙陽極Al/Mg靶、功率大於等於500W; 超高真空系統,樣品分析室真空優於5*10^-10 Torr; 能量分辨...
X射線光電子能譜分析儀是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2015年3月31日啟用。技術指標 Ultimate energy resolution on Ag FWHM≤0.5 eV;XPS energy resolution on PET FWHM≤0.85eV。主要功能 主要用於對樣品表面進行元素種類測定...
原位X射線光電子能譜儀是一種用於物理學、化學、材料科學領域的分析儀器,於2012年11月26日啟用。技術指標 單色化Al KX射線源/He電漿光源,能量分析器能量解析度≤2meV.能量測量範圍: 0.5eV~1500eV,原位有機薄膜蒸鍍系統...
《X光電子能譜的蒙特卡洛模擬》是依託中國科學技術大學,由丁澤軍擔任項目負責人的面上項目。中文摘要 本項課題著重於定量地描述X光電子在材料中的產生和發射過程,研究非彈性散射背景的構3桑幢礱婕しⅰ⑻寮し⒁約凹讀蔚繾擁姆...
2016年1月1日,《X光電子能譜中荷電控制和荷電基準技術標準指南》實施。起草工作 主要起草單位:信息產業專用材料質量監督檢驗中心、中國電子技術標準化研究院、蘇州晶瑞化學有限公司、天津中環領先材料技術有限公司。主要起草人:李雨辰、...
《表面化學分析—X射線光電子能譜—薄膜分析結果的報告》是2019年5月1日實施的一項中國國家標準。編制進程 2018年6月7日,《表面化學分析—X射線光電子能譜—薄膜分析結果的報告》發布。2019年5月1日,《表面化學分析—X射線光電子能...
化學分析電子譜微探針X光電子能譜儀是一種用於化學領域的分析儀器,於2002年4月8日啟用。技術指標 X-ray光源:Al陽極靶,掃描式單色器; 束斑:10 μm~200 μm,一般100 μm~200 μm; 能量分析儀:180o半球形分析器+16通道...
掃描微區X射線光電子能譜儀是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2012年5月3日啟用。技術指標 可用於測定聚合物、金屬及無機非金屬材料表面微區(微米級)界面性質的表征及整體較大尺寸構件的大面積結構性能。主要功能 樣品表面元素組成...
光電子能譜技術包括X光電子能譜(XPS)和俄歇光電子能譜(AES);光譜分析掛術包括紅外光譜(IR)和Raman光譜;顯微分析技術中有掃描隧道顯微鏡(STM),原子力顯微鏡(AFM)及掃描和透射電子顯微鏡(SEM、TEM);X射線分析技術主要是X射線衍射(...