X射線光電子能譜儀

X-射線光電子能譜儀，是一種表面分析技術，主要用來表征材料表面元素及其化學狀態。其基本原理是使用X-射線，如Al Ka =1486.6eV，與樣品表面相互作用，利用光電效應，激發樣品表面發射光電子，利用能量分析器，測量光電子動能(K.E)，根據B.E=hv-K.E-W.F，進而得到激發電子的結合能（B.E)。

基本介紹

• 中文名：X射線光電子能譜儀
• 解析度：0.5cV 
• 電子槍束斑：75nm 
• 靈敏度：80KCPS

主要用途

XPS：固體樣品的表面組成分析，化學狀態分析，取樣訊息深度為～10nm以內. 功能包括:

1. 表面定性與定量分析. 可得到小於10um 空間解析度的X射線光電子能譜的全譜資訊.

2. 維持10um以下的空間解析度元素成分包括化學態的深度分析（角分辨方式,,氬離子或團簇離子刻蝕方式）

3. 線掃瞄或面掃瞄以得到線或面上的元素或化學態分布.

4. 成像功能.

5. 可進行樣品的原位處理 AES：1.可進行樣品表面的微區選點分析（包括點分析，線分析和面分析） 2.可進行深度分析適合： 納米薄膜材料，微電子材料，催化劑，摩擦化學，高分子材料的表面和界面研究

儀器類別

03030707 /儀器儀表 /成份分析儀器

指標信息： 主真空室：1×10-10 Torr XPS：0.5eV, AES: 解析度：0.4%, 電子槍束斑：75nm , 靈敏度：1Mcps信噪比：大於70:1 角分辨：5°～90°. A1/Mg雙陽極靶 能量解析度：0.5eV ,靈敏度：255KCPS, 使用多通道檢測器（MCD）

附屬檔案信息

XPS： 1.快速氬離子刻蝕槍 AES： 1.快速氬離子刻蝕槍 2.能量損失譜 ,

主要研究領域包括：（1）TiO2納米光催化以及在空氣和水淨化方面的套用；（2）汽車尾氣淨化催化劑新型金屬載體的研究；（3）納米藥物載體及靶向藥物的研究；（4）納米導電陶瓷薄膜材料的研究；（5）納米雜化超硬薄膜材料及摩擦化學的研究；（6）納米發光材料及納米分析化學研究；（7）有機電致發光材料的表面化學研究；（8）納米材料在香菸減毒淨化上的套用研究；（9）無機納米殺菌與抗菌材料及其在飲用水淨化上的作用；（10）電解水制氧電極材料的研究