x射線光電子譜是一種用於數學領域的分析儀器，於2008年12月1日啟用。
XPS（X射線光電子能譜）的原理是用X射線去輻射樣品，使原子或分子的內層電子或價電子受激發射出來。被光子激發出來的電子稱為光電子。可以測量光電子的能量，以光電子的動能為橫坐標，相對強度（脈衝/s）為縱坐標可做出光電子能譜圖。
x射線光電子譜是一種用於數學領域的分析儀器，於2008年12月1日啟用。技術指標 真空度5×10^(-8) PaX射線源射線能量：1486.6 eV (Al Kα line), 1253.6 eV (Mg Kα line)；能量半高寬：0.85 eV (Al Kα line), 0....
X射線光電子能譜學（英文：X-ray photoelectron spectroscopy，簡稱XPS）XPS主要套用是測定電子的結合能來鑑定樣品表面的化學性質及組成的分析，其特點在光電子來自表面10nm以內，僅帶出表面的化學信息，具有分析區域小、分析深度淺和不破壞...
Auger電子能譜法：屬於二次電子能譜法。多用於對固體，或凝聚態物質進行元素和價態的分析。圖譜簡單，儀器要求較高。常用來和X射線光電子能譜,螢光光譜，互補聯合使用。儀器組成 光電子能譜儀主要由6個部分組成：激發源、樣品電離室、...
X射線光電子能譜分析(X-ray photoelectron spectroscopy, XPS)是用X射線去輻射樣品，使原子或分子的內層電子或價電子受激發射出來。被光子激發出來的電子稱為光電子，可以測量光電子的能量，以光電子的動能為橫坐標，相對強度(脈衝/s)為...
光電子譜是光電效應中產生的光電子的能量分布譜。通常採用軟X射線(如MgKa與AlKa線)和真空紫外線（如HeⅠ和HeⅡ的氣體放電激發）作為激發光源，分別稱為X 射線光電子譜(XPS)和紫外線光電子譜(UPS)。概念釋義 近年來採用的同步輻射是...
X射線光電子能譜法是2016年公布的化學名詞。定義 超高真空條件下，用電子能譜儀測量X射線光子輻照樣品表面時所發射的光電子及俄歇電子能量分布，以此測定周期表中除氫、氦以外所有元素及其化學態的一種非破壞性表面分析方法。出處 《化學...
X光電子能譜是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2015年6月16日啟用。技術指標 電子槍發射的電子最高能量≥1000 eV，能量解析度＞0.5%。 微聚焦單色化XPS，高精度鑑別化學態； 全自動操作，快速準確地分析表面化學表征； 高靈敏度...
X-光電子能譜儀是一種用於物理學、化學、生物學、材料科學領域的分析儀器，於2011年12月28日啟用。技術指標 1、真空度：≤4X10-6Pa；2、能量範圍：0-1200電子伏特；3、X-ray類型：錐形雙陽極Mg或Al的Kа射線；4、最佳能量解析度...
1. 表面定性與定量分析. 可得到小於10um 空間解析度的X射線光電子能譜的全譜資訊。2. 維持10um以下的空間解析度元素成分包括化學態的深度分析（角分辨方式,,氬離子或團簇離子刻蝕方式）3. 線掃描或面掃描以得到線或面上的元素或化學...
《X射線光電子能譜分析方法通則(GB/T 19500-2004)》提出單位：全國微束分析標準化委員會。本標準歸口單位：全國微束分析標準化委員會。本標準負責起草單位：北京大學化學與分子工程學院。本標準主要起草人：黃惠忠。本標準參加起草人：...
近常壓x射線光電子能譜是一種用於物理學、化學領域的分析儀器，於2017年12月1日啟用。技術指標 EnviroESCA是一台能原位監測樣品表面性質動態變化的XPS儀器。其能量分析器的半徑為150mm，型號為SPECS PHOIBOS EP，採用單色化的鋁Kα作為...
X射線光電子能譜分析儀是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2015年3月31日啟用。技術指標 Ultimate energy resolution on Ag FWHM≤0.5 eV；XPS energy resolution on PET FWHM≤0.85eV。主要功能 主要用於對樣品表面進行元素種類測定...
角分辨X射線光電子能譜儀是一種用於材料科學、化學、物理學、化學工程領域的分析儀器，於2016年12月29日啟用。技術指標 單色化Al靶、雙陽極Al/Mg靶、功率大於等於500W； 超高真空系統，樣品分析室真空優於5*10^-10 Torr； 能量分辨...
近常壓X射線光電子譜是一種用於信息與系統科學相關工程與技術領域的核儀器，於2018年1月16日啟用。技術指標 1、極限真空：5*10-10mbar2、工作氣壓範圍：UHV-25mbar3、變溫範圍：RT-1200℃ in UHV and 25 mbar。主要功能 可以...
X射線光電子能譜及俄歇電子能譜聯用儀 X射線光電子能譜及俄歇電子能譜聯用儀是一種用於材料科學、冶金工程技術領域的分析儀器，於2012年1月4日啟用。技術指標 能量範圍：0-5000ｅｖ，解析度0.45ｅｖ。主要功能 表面及界面分析，。
原位X射線光電子能譜儀是一種用於物理學、化學、材料科學領域的分析儀器，於2012年11月26日啟用。技術指標 單色化Al KX射線源/He電漿光源，能量分析器能量解析度≤2meV.能量測量範圍： 0.5eV～1500eV，原位有機薄膜蒸鍍系統...
掃描微區X射線光電子能譜儀是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2012年5月3日啟用。技術指標 可用於測定聚合物、金屬及無機非金屬材料表面微區（微米級）界面性質的表征及整體較大尺寸構件的大面積結構性能。主要功能 樣品表面元素組成...
本X射線光電子能譜儀測試系統為帶有多種功能的綜合性光電子能譜分析平台。該系統可在極高真空下，通過配備的X射線光源以及紫外光源，在樣品表面激發光電子，再通過高精度探測器捕獲分析，得到相應的光電子能譜。可用於目標樣品的元素組成...
1960年以前，所有對於光電子的動能的分析實際上都是針對金屬和其它固體表面出射的光電子的。1956年左右凱·西格巴恩建立了固體表面分析的X射線光電子能譜學（XPS）方法。該方法用X射線源來研究原子的內層電子（core electron）的能量，其...
X射線光電子譜和二次中性粒子質譜聯合系統是一種用於物理學、化學、材料科學領域的分析儀器，於2018年9月13日啟用。技術指標 主要技術指標，具體請聯繫廣西大學相關管理人。主要功能 射線光電子譜和二次中性粒子質譜。
