X射線光電譜儀

X射線光電譜儀是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2016年4月27日啟用。

基本介紹

• 中文名：X射線光電譜儀
• 產地：德國
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2016年4月27日
• 所屬類別：分析儀器 > X射線儀器 > X射線螢光光譜儀

技術指標

主工作室：規定真空度（烘烤除氣後）≤5×10-10mbar，極限真空度（烘烤除氣後）1.54×10-10mbar；進樣室：規定真空度（烘烤除氣後）≤5×10-8mbar，極限真空度（烘烤除氣後）3.00×10-8mbar；探測器參數：有效測量半徑150mm，工作距離40mm，最大光電子計數率＞10Mcps，光電子動能量程範圍0~3500eV，能量通過範圍1~660 eV.。

主要功能

本X射線光電子能譜儀測試系統為帶有多種功能的綜合性光電子能譜分析平台。該系統可在極高真空下，通過配備的X射線光源以及紫外光源，在樣品表面激發光電子，再通過高精度探測器捕獲分析，得到相應的光電子能譜。可用於目標樣品的元素組成分析、表面化學狀態分析、表面原子電子狀態分析。通過系統搭載的Ar離子濺射系統，可對樣品表面下一定深度處進行分析。此外本系統還搭載了高真空電子束加熱裝置，可對樣品做原位退火分析。為化學、材料方面的研究提供了可靠的測試手段。