化學分析電子譜微探針X光電子能譜儀是一種用於化學領域的分析儀器,於2002年4月8日啟用。
基本介紹
- 中文名:化學分析電子譜微探針X光電子能譜儀
- 產地:美國
- 學科領域:化學
- 啟用日期:2002年4月8日
- 所屬類別:分析儀器 > 電子光學儀器 > 電子能譜儀
化學分析電子譜微探針X光電子能譜儀是一種用於化學領域的分析儀器,於2002年4月8日啟用。
化學分析電子譜微探針X光電子能譜儀是一種用於化學領域的分析儀器,於2002年4月8日啟用。技術指標X-ray光源:Al陽極靶,掃描式單色器; 束斑:10 μm~200 μm,一般100 μm~200 μm; 能量分析儀:...
X-射線光電子能譜儀,是一種表面分析技術,主要用來表征材料表面元素及其化學狀態。其基本原理是使用X-射線,如Al Ka =1486.6eV,與樣品表面相互作用,利用光電效應,激發樣品表面發射光電子,利用能量分析器,測量光電子動能(K.E),根據B.E=hv-K.E-W.F,進而得到激發電子的結合能(B.E)。主要用途 XPS:...
X-光電子能譜儀是一種用於物理學、化學、生物學、材料科學領域的分析儀器,於2011年12月28日啟用。技術指標 1、真空度:≤4X10-6Pa;2、能量範圍:0-1200電子伏特;3、X-ray類型:錐形雙陽極Mg或Al的Kа射線;4、最佳能量解析度:<0.8電子伏特;5、靈敏度:700,000CPS;6、分析器:低通或高通(杜邦型...
X射線光電子能譜技術(XPS)是電子材料與元器件顯微分析中的一種先進分析技術,而且是和俄歇電子能譜技術(AES)常常配合使用的分析技術。由於它可以比俄歇電子能譜技術更準確地測量原子的內層電子束縛能及其化學位移,所以它不但為化學研究提供分子結構和原子價態方面的信息,還能為電子材料研究提供各種化合物的元素組成...
X射線光電子譜儀是一種用於化學、機械工程、材料科學、能源科學技術領域的分析儀器,於2016年11月10日啟用。技術指標 1、能量掃描範圍:1~4000 eV 2、最佳能量解析度:≤0.45 eV(XPS),100 meV(UPS) 3、最佳空間解析度:≤3 μm (X射線光電子成像) 4、最佳靈敏度:1,000,000 cps (Mono XPS, Ag標...
X射線光電子能譜因對化學分析最有用,因此被稱為化學分析用電子能譜(Electron Spectroscopy for Chemical Analysis, ESCA)。1887年,Heinrich Rudolf Hertz發現了光電效應。二十年後的1907年,P.D. Innes用倫琴管、亥姆霍茲線圈、磁場半球 (電子能量分析儀)和照相平版做實驗來記錄寬頻發射電子和速度的函式關係。主要應...
按探針光子的能量,PES可以分為兩類:X射線光電子譜(XPS),能量範圍為100eV~10keV;紫外線電子譜(UPS)能量範圍為10eV~40eV。俄歇電子能譜儀 電子束轟擊材料表面,會產生表征元素種類及其化學價態的二次電子,這種二次電子稱為俄歇電子。俄歇電子的穿透能力弱,故可以用來分析表面1nm以內幾個原子層的成分。如配...
角分辨X射線光電子能譜儀是一種用於材料科學、化學、物理學、化學工程領域的分析儀器,於2016年12月29日啟用。技術指標 單色化Al靶、雙陽極Al/Mg靶、功率大於等於500W; 超高真空系統,樣品分析室真空優於5*10^-10 Torr; 能量分辨優於0.5eV/(Ag 3d5/2), 0.8 eV/(C 1s); 對樣品進行表面元素和價態...
X射線光電子能譜學是一種用於測定材料中元素構成、實驗式,以及其中所含元素化學態和電子態的定量能譜技術。這種技術用X射線照射所要分析的材料,同時測量從材料表面以下1納米到10納米範圍內逸出電子的動能和數量,從而得到X射線光電子能譜。X射線光電子能譜技術需要在超高真空環境下進行。XPS是一種表面化學分析技術...
多功能電子能譜儀是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2007年10月31日啟用。技術指標 X射線光電子能譜(XPS),可使用單色化Al靶X射線源及雙陽極Al/Mg靶X射線源,包括大面積XPS(0.8×2 mm),微區XPS(最小選區15 μm)、深度剖析XPS及XPS成像,空間解析度<3 μm;場發射俄歇電子能譜(AES)...