高真空掃描電子顯微鏡

高真空掃描電子顯微鏡是一種用於物理學、化學領域的分析儀器，於2013年5月13日啟用。

基本介紹

• 中文名：高真空掃描電子顯微鏡
• 產地：捷克
• 學科領域：物理學、化學
• 啟用日期：2013年5月13日
• 所屬類別：分析儀器

技術指標

電子槍: 鎢燈絲二次電子解析度: 30KV下3.0nm; 3KV下8.0nm 背散射電子解析度：30KV下3.5nm 加速電壓: 200V~30KV；探針電流﹕ 1pA至2μA 。

主要功能

用於化學、物理學、材料科學、地質學、生物學、醫學、環境科學等領域的科學研究。本設備主要面向金屬、半導體、陶瓷、納米材料、功能材料、催化劑的研究和技術開發，用於觀察分析以上固體物質和材料的表面形貌和組織。