環境掃描電鏡是一種用於物理學領域的分析儀器,於2014年3月19日啟用。
基本介紹
- 中文名:環境掃描電鏡
- 產地:中國
- 學科領域:物理學
- 啟用日期:2014年3月19日
- 所屬類別:分析儀器 > 顯微鏡及圖象分析儀器 > 掃描探針顯微鏡
環境掃描電鏡是一種用於物理學領域的分析儀器,於2014年3月19日啟用。
環境掃描電鏡是一種用於物理學領域的分析儀器,於2014年3月19日啟用。技術指標 解析度:高真空模式:3.0nm(SE,30kV),4.0nm(BSE,30kV),8.0nm(SE,3kV) 低真空模式:3.0nm(SE,30kV),4.0nm(BSE,30kV) 環境真空模式:3.0nm(SE,30kV)。主要功能 主要用於各種固體材料的顯微形貌分析和...
儀器類別: 0304070201 /儀器儀表 /光學儀器 /電子光學及離子光學儀器 /掃描式電子顯微鏡 指標信息: 二次電子成像,背散射成像,陰極螢光成像;解析度:高真空:30KV時,為1.5nm; 1KV時,為3nm; X射線能譜分析:元素分析範圍B-U;高性能陰極螢光:具有對特定波長光譜分析與成像(指定波長光譜面分布)的能力,...
場發射環境掃描電子顯微鏡是一種用於表面形貌分析的設備。套用 可對各種各樣的樣品進行靜態和動態觀察和分析,在一定壓力的水蒸氣條件下進行各種物質的表面形貌分析和微區成分分析,避免樣品在真空條件下發生失水而發生表面形貌的變化,特別對非導體物質可以不需要進行噴鍍導電膜即可以進行表面形貌和微區成分分析,廣泛套用...
熱場發射環境掃描電鏡是一種用於物理學、化學、材料科學、生物學領域的分析儀器,於2005年9月15日啟用。技術指標 Quanta 400 FEG場發射掃描電子顯微鏡是表面分析重要的表征工具之一,具有靈活先進的自動化作業系統。具有三種成像真空模式--高真空模式、低真空模式和ESEMTM模式,可以觀察分析各種類型的樣品。它可以對處理...
場發射環境掃描電鏡及能譜儀是一種用於材料科學、土木建築工程、水利工程、化學工程領域的分析儀器,於2011年12月27日啟用。技術指標 分高真空、高真空下減速模式、低真空、環境真空模式,最高解析度≤1.0nm。 最大放大倍數不得少於X800000,二次電子檢測器,樣品台尺寸XY水平方向0~50mm,豎向Z不得少於30mm。主要...
雙束環境掃描式電子顯微鏡是一種用於物理學、農學、材料科學、礦山工程技術領域的分析儀器,於2009年7月1日啟用。技術指標 Voltage:200V to30KV Beam Current:小於200nA Resolution:1.2nm to30kv(SE) 放大倍數50萬倍、解析度:1.3nm。主要功能 材料顯微形貌分析 、 選區元素分析 、 離子束微加工。
1.在電子顯微鏡中樣本必須在真空中觀察,因此無法觀察活樣本。隨著技術的進步,環境掃描電鏡將逐漸實現直接對活樣本的觀察;2.在處理樣本時可能會產生樣本本來沒有的結構,這加劇了此後分析圖像的難度;3.由於電子散射能力極強,容易發生二次衍射等;4.由於為三維物體的二維平面投影像,有時像不唯 一;5.由於透射...
掃描電鏡成像過程與電視成像過程有很多相似之處,而與透射電鏡的成像原理完全不同。透射電鏡是利用成像電磁透鏡一次成像,而掃描電鏡的成像則不需要成象透鏡,其圖象是按一定時間、空間順序逐點形成並在鏡體外顯像管上顯示。二次電子成象是使用掃描電鏡所獲得的各種圖象中套用最廣泛,分辨本領最高的一種圖象。我們以二...
電鏡放大:65,000 解析度:優於 25 nm 抽真空時間:小於 15 秒 探測器:背散射電子探測器 放置環境:普通實驗室或辦公室、廠房 設備圖片 台式掃描電子顯微鏡 Phenom XL把台式電鏡的性能再次提升到了一個新台階,在數秒之內可遍覽微觀世界,具有簡單易用,30秒快速成像,全程樣品導航,直接觀測不導電樣品,高亮度...
超高分辨冷場發射掃描電鏡是一種用於化學、生物學、環境科學技術及資源科學技術領域的分析儀器,於2019年10月11日啟用。技術指標 1、二次電子解析度:≥1.0nm (加速電壓15kV)、≥2.0nm (加速電壓1kV)、≥1.3nm (照射電壓1kV,使用減速裝置)。 2、加速電壓:0.1-30 kV,放大倍數:20-80萬倍(底片模式)、60...
電子掃描電鏡 電子掃描電鏡是一種用於化學、環境科學技術及資源科學技術領域的電子測量儀器。技術指標 放大倍數:×5~×300,000。主要功能 材料分析。
飛納台式場發射掃描電鏡能譜一體機標配背散射電子成像、二次電子電子成像和能譜分析功能,可對各種樣品進行高分辨成像及元素分析。能量色散譜採用穩定堅固的超薄 Si3N4 視窗,元素檢測範圍 B (5) ~ Am (95),對輕元素檢測和低電壓能譜分析更具優勢。Phenom Pharos 低電壓成像優勢明顯,可減輕電子束對樣品的損傷和...
台式掃描電子顯微鏡用於各種樣品微細結構和特徵的形貌觀察,適用於生物樣品、醫學樣品、環境樣品、金屬材料、合金材料、陶瓷材料、吸附劑等的形貌觀察和微區分析。對礦物的形貌、元素成分進行表征 簡介 掃描電鏡成像是利用細聚焦高能電子束在樣件表面激發各種物理信號,如二次電子、背散射電子等,通過相應的檢測器來檢測...
透射電鏡功能及套用範圍: 1、高性能的透射電子成像、掃描透射成像和納米分析 2、所有的先進分析技術集成於一體: TEM、HR-TEM、STEM、HR-STEM、電子衍射、EFTEM、EDS和EELS頻譜圖、全息技術和Lorentz透鏡技術、三維重構技術、低劑量曝光技術、冷凍電鏡技術 3、多用戶環境下的方便和安全操作 掃描電鏡功能及套用範圍: ...
掃描電子顯微鏡和能譜分析儀是一種用於化學、材料科學、環境科學技術及資源科學技術、安全科學技術領域的分析儀器,於2016年11月7日啟用。技術指標 1. 二次電子解析度:3.0nm(加速電壓=30kV,WD=5mm高真空模式);7.0nm(加速電壓=3kV,WD=5mm高真空模式); 2. 放大倍率:5-10000; 3. 最大樣品尺寸:最大樣品...
但是在掃描電子顯微鏡的使用過程中,特別是在安裝初期,使用者通常由於對電鏡的運行狀態缺乏系統認識,經常會遇到軟體當機、樣品台被卡、真空問題等多種故障。解決方式一般為請維修工程師上門維修,除花費時間和費用外,也造成了對電鏡操作者的心裡束縛。筆者以德國蔡司ULTRA PLUS掃描電子顯微鏡為例,從環境條件、光學系統...
掃描電子顯微鏡3是一種用於化學、生物學、農學、環境科學技術及資源科學技術學科領域的電子光學儀器,於2016年8月15日啟用。技術指標 解析度:3.0 nm @ 30 KV (SE 與W)、4.0 nm @ 30 KV (VP with BSD );加速電壓:0.2-30KV ;放大倍數:5-1000000 x ;探針電流:0.5PA-5μA ;X-射線分析工作...
本課程將作為電鏡室透射電鏡上機操作培訓的基礎選修課程,要求參加上機培訓的學生儘可能參加該課程的學習。本課程是研究生院開設的公共選修課程,課程號是30810190,總學時為54學時,授課對象為全校研究生。科研工作及發表第一作者文章 1.環境掃描電鏡下ZnO納米結構的原位生長觀察研究這是一項開創性的工作,本人在環境掃描...
高低真空掃描電鏡是一種用於化學領域的分析儀器,於2003年8月1日啟用。技術指標 高真空模式解析度: 3.0nm @ 30KV WD=8mm;低真空模式解析度: 4.0nm @ 30KV WD=5mm 放大倍數: ×5~×300,000。主要功能 高靈敏度半導體式反射電子檢測器是不需拿出放入操作的類型,可獲得構成圖像、凹凸圖像和立體圖像。適用...
分辯率5uN; 掃描電鏡Phenom pure 放大倍數20X~28,000X,電鏡解析度30nm,成像時間30s,電鏡準備時間13小時。主要功能 該系統分為掃描電鏡和微納操縱定位測量系統兩個組成部分,該設備可利用微納探針或微納鉗夾對於樣品進行力學性質測試或者進行微納尺度的操縱,並在掃描電鏡環境下觀測操縱結果和形貌參數。
掃描型電子顯微鏡是一種用於生物學領域的分析儀器,於2017年7月14日啟用。技術指標 第四代 Phenom Pro 是一款使用高亮度 CeB6 燈絲的高解析度台式掃描電鏡。觀察納米或者亞微米樣品的微觀結構,放大倍數要求可達130,000 倍。基於新一代高亮度 CeB6 燈絲和全新的聚焦系統,Phenom Pro的解析度輕鬆達到 14 nm,同時...
1.4 掃描電鏡組成系統 1.4.1 電子光學系統 1.4.2 掃描系統 1.4.3 信號檢測放大系統 1.4.4 圖像顯示和記錄系統 1.4.5 真空系統 1.5 場發射掃描電鏡 1.5.1 概述 1.5.2 解析度的影響因素 1.6 低能掃描電鏡 1.6.1 低能掃描電鏡的加速電壓 1.6.2 低能掃描電鏡的優缺點 1.7 環境掃描電鏡 1....
FEI多用途掃描電鏡是一種用於化學領域的分析儀器,於2017年5月11日啟用。技術指標 (1)成像模式分為二次電子像、背散射電子像、特徵X射線等;(2)放大倍數:100×~150,000×;(3)加速電壓:0.2-30kV。主要功能 (1)可以在各種環境下非破壞性地分析測定各種物質的形態及成份的現代分析;(2)可對各種物質...
高分辨掃描電子顯微鏡是一種用於化學、材料科學、環境科學技術及資源科學技術領域的分析儀器,於2018年11月07日啟用。技術指標 1.低加速電壓成像能力,1kv解析度可達1.3nm 2.不需噴鍍,可以直接觀測不導電樣品 3. 配置Lower、Upper和Top三個Everhart-Thornley型探測器 4. Upper和Top探頭均可選擇接受二次電子像或背...
2、多種成像模式:透射模式(TEM),掃描透射模式(STEM),電子衍射模式(ED)3、觀察生物樣品無需染色 優勢 體積小環境要求低,可安裝在任意實驗室 傳統大型透射電子顯微鏡體積龐大,對放置環境有著嚴格的要求,對震動非常敏感,需要安裝在良好的減震地基上,因此只能安放在一樓或地下室。並且,並且由於大型透射電鏡...
5.環境掃描電鏡80年代出現的環境掃描電鏡ESEM,根據需要試樣可處於壓力為1—2600Pa不同氣氛的高氣壓低真空環境中,開闢了新的套用領域。與試樣室內為10-3Pa的常規高真空SEM不同,所以也可稱為低真空掃描電鏡LV-SEM。在這種低真空環境中,絕緣試樣即使在高加速電壓下也不會因出現充、放電現象而無法觀察;潮濕的試樣...
在環境掃描電鏡(ESEM)中注入氧氣,減少和消除絕緣樣品表面在電子束輻照下產生的荷電效應。二次電子像的觀察顯示,在壓力為130Pa~600Pa的ESEM中,氧氣對Al2O3、Al(OH)3等氧化物、氫氧化物及生物樣品的荷電補償效果,優於常用的水蒸汽環境。通過吸收電流I。的實時測試,評價了氧環境的荷電補償效果。採用氧氣...
成像過程(imaging process)是指通過信號處理和成像系統等光學系統將影像聚焦在成像元件上,成像存儲到存儲介質當中的過程。掃描電鏡成像過程 成像原理 掃描電鏡的成像原理(如圖1所示)。在收集板電場的作用下,從試樣表面所發出的電子信息通過閃爍晶體後轉換為光子,光子通過光導管進入光電倍增管中被放大並轉換為信號電流...
主要測試設備有:透射電子顯微鏡(含能譜);場發射掃描電鏡(含能譜、電子背散射衍射分析系統和STEM探頭);環境掃描電鏡(配有冷、熱台附屬檔案及能譜分析);X射線衍射儀(配有冷、熱台附屬檔案);X射線螢光探針;核磁共振波譜儀;園二色光譜儀;螢光光譜儀;傅立葉變換顯微紅外/拉曼光譜聯用儀;微波萃取/肖解系統;...