多功能電子掃描顯微鏡是一種用於機械工程領域的計量儀器,於2014年10月1日啟用。
基本介紹
- 中文名:多功能電子掃描顯微鏡
- 產地:德國
- 學科領域:機械工程
- 啟用日期:2014年10月1日
- 所屬類別:計量儀器 > 電磁學計量儀器 > 超導強磁場標準
多功能電子掃描顯微鏡是一種用於機械工程領域的計量儀器,於2014年10月1日啟用。
多功能電子掃描顯微鏡 多功能電子掃描顯微鏡是一種用於機械工程領域的計量儀器,於2014年10月1日啟用。技術指標 EV0 MA25。主要功能 電子掃描。
多功能掃描式電子顯微鏡 多功能掃描式電子顯微鏡是一種用於農學、林學、材料科學領域的分析儀器,於2012年12月07日啟用。技術指標 1.加速電壓:200V~30kV;2.放大倍數:6~100萬倍,誤差 主要功能 放大倍數;解析度。
掃描電子顯微鏡 掃描電子顯微鏡的電子束不穿過樣品,僅以電子束儘量聚焦在樣本的一小塊地方,然後一行一行地掃描樣本。入射的電子導致樣本表面被激發出次級電子。顯微鏡觀察的是這些每個點散射出來的電子,放在樣品旁的閃爍晶體接收這些次級電子...
台式掃描電子顯微鏡(Desktop Scanning Electron Microscope)是一種體積小巧,可安放在實驗檯面上操作的電子顯微鏡。其原理和傳統(落地式)掃描電子顯微鏡相同。部件包括:電子發射、電磁透鏡、信號探測、真空系統、計算機控制系統。台式掃描電子...
掃描電子顯微鏡EVO LS 10 掃描電子顯微鏡EVO LS 10是一種用於生物學學科領域的顯微鏡及圖象分析儀器,於2016年10月19日啟用。分析項目 樣品表面形貌掃描。分析標準 遺傳-雷射掃描共聚焦顯微鏡樣品的標準。
桌面電子掃描顯微鏡是一種用於工程與技術科學基礎學科領域的分析儀器,於2016年11月24日啟用。技術指標 ①電子槍:場發射電子源 ②加速電壓:0.5 to 2 kV ③束流:0.2 to 1 nA ④解析度:<10 nm (@1kV) ⑤放大倍數:250 ...
桌面掃描電子顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2018年7月4日啟用。技術指標 (1)、電子槍:六硼化鑭燈絲,燈絲壽命≥1000小時;(2)、放大倍數:30-100000倍;可數位放大:2倍、4倍;(3)、電子束電流:30pA-1nA,...
攜帶型電子掃描顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2019年7月16日啟用。技術指標 二次電子解析度:≤4.0nm@20kV,15nm@1kV;背散射電子解析度:≤5.0nm@20kV(低真空);放大倍數:6~300000倍;五軸馬達台;X射線能譜儀。
超高解析度掃描電子顯微鏡是專門為現今技術研究和發展設計的超高解析度儀器。產品介紹 冷場發射掃描電子顯微鏡m213451是專門為現今技術研究和發展設計的超高解析度儀器。獨特之處在於使用複合檢測器允許同時顯示二次電子和背散射電子成像。可以以...
日立掃描電子顯微鏡是一種用於化學、安全科學技術領域的分析儀器,於2016年5月7日啟用。技術指標 加速電壓-15kV;放大倍數-15x to 60,000x。主要功能 日立台式電鏡TM3030標配4分割背散射探測器,可採集來自四個不同方向的圖像信息,可以有...
掃描式電子顯微鏡-X射線能譜儀是一種用於物理學、化學、材料科學領域的分析儀器,於2010年3月17日啟用。技術指標 硬體:倍率:15~100000,觀察範圍:9(H)×7(V)mm~1.3(H)×1(V)mm,解析度:8nm,觀察兩次電子圖像和反射電子...
超高分辨掃描電子顯微鏡是一種用於物理學、材料科學領域的分析儀器,於2017年12月22日啟用。技術指標 15 KV:解析度0.8nm(工作距離4nm),1 KV: 1.1 nm(減速模式),5軸馬達自動驅動。主要功能 表面形貌分析和測量,端面膜厚...
掃描式電子顯微鏡系統 掃描式電子顯微鏡系統是一種用於物理學、化學、材料科學、化學工程領域的分析儀器,於2011年3月10日啟用。技術指標 放大倍數30-300000,解析度3nm。主要功能 對材料進行微觀形貌分析。
掃描電子顯微鏡系統是一種用於物理學、材料科學領域的分析儀器,於2015年10月26日啟用。技術指標 解析度:3.0nm@30KV(SE and W),4.0nm@30KV(VP with BSD)。主要功能 觀察掃描各種金屬材料及產品的顯微形貌,可進行失效分析,能譜...
日本JEOL掃描電子顯微鏡是一種用於安全科學技術領域的分析儀器,於2007年11月13日啟用。技術指標 放大倍數5-10萬倍;三級物鏡光欄;高低真空切換;加速電壓0.5→30KV。主要功能 金屬材料,納米材料,微觀形貌分析及微區成份分析。
掃描電子顯微鏡及能譜儀是一種用於材料科學、機械工程、安全科學技術領域的分析儀器,於2010年12月27日啟用。技術指標 放大倍數:6x–1,000,000x,解析度:30kV下3.0nm(SE),30kV下4.0nm(BSE),3kV下8.0nm(SE)。主要功能 微觀...
可變真空掃描電子顯微鏡是一種用於電子與通信技術領域的分析儀器,於2011年4月20日啟用。技術指標 1、解析度:二次電子探測器3.0nm(30kV),15.0nm(1kV),背散射電子探測器4.0nm(30kV)2、放大倍數5~300000倍,自動修正放大;3...
掃描式透射電子顯微鏡,是一種光學儀器。掃描式透射電子顯微鏡(scanning transmission electron microscope)使用高亮度的冷電子光源,匯聚成極細的電子探針後對樣品進行掃描,然後收集穿過樣品的電子,同時在樣品正方裝有電子能量分析器。這種...
分析電子顯微鏡是由透射電子顯微鏡、掃描電子顯微鏡和電子探針組合而成的多功能的新型儀器。analytical electron microscope;AEM 是由透射電子顯微鏡、掃描電子顯微鏡和電子探針組合而成的多功能的新型儀器。其功能有:可獲得透射電子圖像、掃描...
14. Quorum PP3010T 冷凍傳輸系統,配備樣品製備腔室,具有鍍膜和升華功能。15. Amira軟體三維重構和分割渲染。主要功能 Helios Nanolab G3 UC 是目前世界上非常先進的用於細胞、組織等生物樣品成像的掃描雙束電子顯微鏡:(1)具有Dual...
小型掃描電子顯微鏡是一種用於化學工程領域的分析儀器,於2018年11月7日啟用。技術指標 1.加速電壓是:0.3~20 kV連續可調; 2.二次電子解析度是:4.0 nm@20 kV,15 nm@1 kV背散射電子解析度優於:5.0 nm@20 kV(低真空):...
7.研究型全自動倒置顯微鏡 8.六位電動物鏡轉換器,具有自動齊焦功能 9.螢光光源:2000h長壽命,120w金屬鹵化物, 光纖連線,光強和光閘可調 10.全電動掃描載物台,運動行程≥130mmx100mm 。主要功能 雷射掃描共聚焦顯微術能夠獲取樣品內...
高低真空掃描電子顯微鏡是一種用於材料科學、冶金工程技術領域的分析儀器,於2005年5月20日啟用。技術指標 高真空模式解析度:3.0nm;低真空模式解析度:4.0nm;放大倍數:×5_×300,000;探測器:二次電子探測器、高靈敏度半導體探測...
鎢絲燈掃描式電子顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2013年5月20日啟用。技術指標 高真空(SE): 3 nm @ 30 kV / 2 nm @ 30 kV 8 nm @ 3 kV / 5 nm @ 3 kV 低真空模式(LVSTD,BSE): 3.5 nm @ 30 ...