場發射掃描電鏡系統

場發射掃描電鏡系統

場發射掃描電鏡系統是一種用於機械工程領域的分析儀器,於2013年11月13日啟用。

基本介紹

  • 中文名:場發射掃描電鏡系統
  • 產地:捷克
  • 學科領域:機械工程
  • 啟用日期:2013年11月13日
  • 所屬類別:分析儀器 > 電子光學儀器 > 掃描電鏡
技術指標,主要功能,

技術指標

場發射掃描電鏡,配有能譜儀、熱台。最大放大倍數可達30萬倍。

主要功能

表面形貌、成分測試。

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