場發射掃描電鏡系統是一種用於機械工程領域的分析儀器,於2013年11月13日啟用。
基本介紹
- 中文名:場發射掃描電鏡系統
- 產地:捷克
- 學科領域:機械工程
- 啟用日期:2013年11月13日
- 所屬類別:分析儀器 > 電子光學儀器 > 掃描電鏡
場發射掃描電鏡系統是一種用於機械工程領域的分析儀器,於2013年11月13日啟用。
場發射掃描電鏡系統是一種用於機械工程領域的分析儀器,於2013年11月13日啟用。技術指標場發射掃描電鏡,配有能譜儀、熱台。最大放大倍數可達30萬倍。1主要功能表面形貌、成分測試。1...
利用這一系統獲得的鋯石高清晰CL圖像及CL譜圖分析結果顯示其在鋯石等發光礦物的微區結構特徵研究和成因類型鑑別中有廣泛的套用前景。場發射掃描電子顯微鏡(簡稱場發射掃描電鏡)是研究微觀世界的重要工具之一,為人們在微納米尺度上研究物質...
場發射環境掃描電子顯微鏡系統是一種用於化學、基礎醫學、材料科學、環境科學技術及資源科學技術領域的分析儀器,於2007年12月28日啟用。技術指標 解析度高真空30KV優於2.0nm/低真空時30KV優於3.5nm;環境真空:30KV優於2.0nm;對樣品...
熱場發射掃描電鏡系統是一種用於地球科學領域的分析儀器,於2017年11月28日啟用。技術指標 熱場發射掃描電鏡二次電子像解析度:0.8nm@15KV、1.6nm@1KV,Schottky型場發射電子源,掃描透射像探測器,帶能譜儀、EBSD、冷台、臨界點乾燥...
雙束場發射掃描電子顯微鏡系統是一種用於生物學、材料科學、化學工程領域的分析儀器,於2011年12月27日啟用。技術指標 1、場發射槍 2、FIB最大束流20nA,SEM解析度1.1nm@20kv,FIB解析度2.5nm@30kv 3、具有Pt氣體沉積系統。主要功能...
冷場發射掃描電鏡是一種用於材料科學、化學領域的分析儀器,於2010年1月15日啟用。技術指標 辨率:1.0nm (15kV),2.0nm (1kV),1.4nm(1KV)入射電子減速功能;放大倍率:×20 ~ ×800,000;加速電壓:0.5 ~ 30kV;X射線能譜儀...
超高分辨場發射掃描電子顯微鏡是一種用於能源科學技術、航空、航天科學技術、考古學領域的分析儀器,於2014年9月1日啟用。技術指標 次電子圖像分率:1.0 nm(加速電壓 15 kV, WD=4 mm) 1.3 nm(著陸電壓 1 kV, WD=1.5 mm) ...
高解析度場發射掃描電鏡 高解析度場發射掃描電鏡是一種用於物理學、化學領域的分析儀器,於2016年12月20日啟用。技術指標 解析度:1.0nm(加速電壓15KV);2nm(加速電壓1KV)。主要功能 形貌觀察、微區分析。
冷場發射式掃描電鏡 冷場發射式掃描電鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2010年9月29日啟用。技術指標 二次電子解析度:1.0nm(15KV)。主要功能 所有固體材料的分析與觀察。
7、數字圖像記錄系統:TV掃描(640*480 pixel顯示,25/30禎/s),快速掃描(全螢幕顯示,6.25/7.5禎/s),慢速掃描(全螢幕顯示,1/4/20/40/80 s/禎)(640*480 顯示, 0.5/2/10/20/40 s/禎),圖像顯示不低於1280×960像素,圖...
結合掃描電鏡冷凍傳輸系統,成為聯繫SEM(納米表征和微米分析)和TEM(納米和原子級別分析和表征)的橋樑,揭示生物樣本在天然狀態下的真實超微結構和活性功能狀態.。主要功能 掃描電子顯微成像與三維重構。
場發射電子束/聚焦離子束雙束工作站是一種用於電子與通信技術領域的醫學科研儀器,於2015年12月16日啟用。技術指標 Electron beam: ≤1.0nm@15V,≤1.9nm@1KV;Ion Beam:≤2.5nm@30kV。主要功能 雙束系統中場發射掃描電鏡主要用於...
超高分辨掃描電鏡是一種用於數學領域的分析儀器,於2005年2月1日啟用。技術指標 型號:Sirion 200 加速電壓:200V-30KV; 解析度:10KV,1.5nm;1KV,2.5nm;EDAX 能譜儀:133eV,Be-U。 熱場發射電子槍,配能譜儀,可用於...
台式掃描電子顯微鏡結合光學顯微鏡與傳統掃描電鏡的優點。既保留的掃描電鏡較高的放大倍數和大景深,同時體積小、操作簡便,價格僅為傳統電鏡的幾分之一,逼近高端光學顯微鏡。台式掃描電子顯微鏡操作方便、維護簡單等特點被認可。組成 真空系...
Quanta™ 掃描電子顯微鏡 Quanta 掃描電子顯微鏡是一款高性能的多功能電子顯微鏡,提供三種操作模式(高真空、低真空和 環掃 (ESEM)),它是所有掃描電鏡中能看最多樣品類型的一款掃描電鏡.。 所有 Quanta SEM 系統均配置分析系統,如能...
3.場發射槍掃描電鏡和低壓掃描電鏡場發射掃描電鏡得到了很大的發展〔24〕。日立公司推出了冷場發射槍掃描電鏡,Amray公司則生產熱場發射槍掃描電鏡,不僅提高了常規加速電壓時的分辨本領,還顯著改善了低壓性能。低壓掃描電鏡LVSEM由於可以...
2套)、離子束濺射機、離子束刻蝕機、等離子增強化學氣相沉積設備、金屬反應離子刻蝕設備、介質反應離子刻蝕設備、深矽刻蝕系統(2套)、微電鑄/電鍍系統、OLED器件實驗製備系統、基片拋磨設備、砂輪切片系統、場發射掃描電鏡、原子力顯微鏡...
取向差一部分來自系統誤差,主要由EBSD的角解析度決定,在場發射掃描電鏡下,角解析度大概為0. 2°~ 1. 0°。另一部分則來自樣品本身局部的取向變化,這種取向變化往往與塑性變形引入的亞結構有關。取向差是晶粒內部的取向變化和系統...
首先,利用光學顯微鏡觀察蜻蜓翅膀的翅脈排列規律,分析具有褶皺狀和三維網狀結構的特徵,探索蜻蜓翅膀獨特的巨觀結構,揭示巨觀結構與功能之間的關係;其次,利用場發射掃描電鏡,系統地觀察蜻蜓翅脈表面、橫截面和縱截面的微觀結構,分析微觀...
主要測試設備有:透射電子顯微鏡(含能譜);場發射掃描電鏡(含能譜、電子背散射衍射分析系統和STEM探頭);環境掃描電鏡(配有冷、熱台附屬檔案及能譜分析);X射線衍射儀(配有冷、熱台附屬檔案);X射線螢光探針;核磁共振波譜儀;園二色...
選擇北京市為重點研究區,以北京市密雲地區和重慶市為對照研究區,監測霧前後大氣顆粒物質量濃度的變化,採集霧前、霧中和霧後大氣顆粒物樣品,採用高解析度場發射掃描電鏡、掃描電鏡-X射線能譜和透射電鏡-X射線能譜、圖像分析系統、離子...
中心儀器設備配套齊全,擁有JEM-F200高分辨透射電鏡、AXIS Supra⁺ X射線光電子能譜儀、Apreo S Hivac場發射掃描電鏡(含牛津AZtec Ultim Live 100能譜儀和Symmetry 電子背散射衍射儀)、EPMA-8050G場發射掃描電子探針、SmartLab SE高溫...