基本介紹
- 中文名:光刻分子膠
- 外文名:Molecular Resist
光刻分子膠本質上是一種的聚合物化學放大膠,例如基於羥基苯乙烯聚合物的膠。...... 光刻分子膠本質上是一種的聚合物化學放大膠,例如基於羥基苯乙烯聚合物的膠。...
光刻膠是微電子技術中微細圖形加工的關鍵材料之一,特別是近年來大規模和超大規模積體電路的發展,更是大大促進了光刻膠的研究開發和套用。印刷工業是光刻膠套用的...
光刻工藝過程可以用光學和化學模型,藉助數學公式來描述。光照射在掩模上發生衍射,衍射級被投影透鏡收集並會聚在光刻膠表面,這一成像過程是一個光學過程;投影在光...
環氧分子在酸的作用下聚合形成聚合物並與酚醛反應,形成交聯的一種光刻膠稱為環氧光刻膠。...
正性光刻膠,樹脂是一種叫做線性酚醛樹脂的酚醛甲醛,提供光刻膠的黏附性、化學抗蝕性,當沒有溶解抑制劑存在時,線性酚醛樹脂會溶解在顯影液中;感光劑是光敏化合物...
根據光刻膠在溶劑中的溶解度,選擇光刻中合適的溶劑的方法稱為光刻膠配方。...... 選取合適的溶劑是光刻膠配方的重要工作,溶劑對光刻膠的性能有很大影響。溶劑選...
正性光刻膠也稱為正膠。正性光刻膠樹脂是一種叫做線性酚醛樹脂的酚醛甲醛,提供光刻膠的粘附性、化學抗蝕性,當沒有溶解抑制劑存在時,線性酚醛樹脂會溶解在顯影...
▪ 邊緣光刻膠的去除 ▪ 對準 ▪ 曝光 ▪ 後烘 ▪ 顯影 ▪ 硬烘 2 準分子光刻技術 3 極紫外光刻技術 4 電子束光刻技術 光...
光刻膠溶劑是指積體電路製造光刻工藝光刻膠配方中所使用的溶劑。...... 光刻膠溶劑是指積體電路製造光刻工藝光刻膠配方中所使用的溶劑 [1] 。中文名 光刻膠...
光刻膠輸送系統負責把光刻膠從膠瓶抽出來,沿管道輸送到噴嘴,並按設定好的容量噴淋到晶圓上。...
極紫外光刻膠是指在極紫外光刻技術中所套用的光刻膠。...... 極紫外光刻膠是指在極紫外光刻技術中所套用的光刻膠。中文名 極紫外光刻膠 外文名 EUV Photo...
紫外光刻膠UV resist用紫外光作曝光光源的光刻膠。一般是指分光感度波長為sao一450nin的近紫外抗蝕劑紫外光刻膠有負性、正性和止一負性兩用三類。負性的代...
正型光刻膠 由光分解劑和鹼性可溶性樹脂及溶劑組成,為重氮茶醒磺酸醋及線性酚醛製成。...
環化光刻膠cy-clixed resi、又稱環化橡膠型光致抗蝕劑一系由環化大然橡膠、增感hll(或稱交聯劑,如對疊氮型化合物)、光敏劑,以適當溶3}I,<}L制而成。...
光刻技術是指在光照作用下,藉助光致抗蝕劑(又名光刻膠)將掩膜版上的圖形...準分子光刻技術作為當前主流的光刻技術,主要包括:特徵尺寸為0.1μm的248 nm ...
軟烘後,利用化學或光學的方法去除晶圓邊緣處的光刻膠,稱為光刻膠邊緣修復,也叫光刻膠去邊。...
正型光刻膠稀釋劑 主要成分為醚及醋。無色透明的有機溶劑。易燃,易吸水,應在乾燥、遠離火源處存放。可用作調整正型光刻膠膠液濃度的稀釋劑。 ...
特性 主要成分為苯酚加瘩劑。紅色透明液體。能與水、}} }* i} }riJ互溶.有毒且有腐蝕性。適用於去除負型光刻膠光刻後的膠膜以及同類型光刻膠膜的去除 ...
光刻膠用染料dyes for phVLaetChlT'g微電子工業光刻過程中所用的染料、通常是那些含兩個或三個雙偶氮蔡釀功能團的化合物和一些荀一3一梭酸類染料。二芳甲烷...
正型光刻膠顯影劑 主要成分為氫氧化鈉與有機胺。為無色透明的鹼性水溶液。用作正型光刻膠的顯影劑。 ...
光刻膠旋塗單元包括一個可以旋轉的樣品台(spin table)和幾個噴嘴(nozzle),負責對晶圓表面做光刻膠塗覆,實現指定的厚度和均勻性。...
正型光刻膠去膜劑 主要成分為苯酚、丙酮和有機胺。棕色油狀液體,易燃。...... 正型光刻膠去膜劑 主要成分為苯酚、丙酮和有機胺。棕色油狀液體,易燃。...
曝光光源波長分為紫外、深紫外和極紫外區域,光源有汞燈,準分子雷射器等。光刻機光刻機種類 編輯 a.接觸式曝光(Contact Printing):掩膜板直接與光刻膠層接觸。...
特性 混合烷烴經1 . U}cm過濾膜過濾製得。為無色透明液體.易揮發.能與苯類、三氯甲烷、汕類等混合不溶於水易燃用於負}J光刻膠顯影。 ...
鄰益氮縈醒光刻膠dixu}naphthnyuinone phntnresist常月J的正性光刻咬。其主要成分有鄰餐氮蔡釀系化合物、鹼溶性高分子類成膜劑(多採用線性酚醛樹脂)、溶劑...
三層光刻材料即所謂的tri-layer,是特指光刻膠(resist)、含Si的抗反射塗層(SiARC)和旋塗的有機碳。...