三層光刻材料即所謂的tri-layer，是特指光刻膠（resist）、含Si的抗反射塗層（SiARC）和旋塗的有機碳。 基本介紹 中文名：三層光刻材料外文名：tri-layer 含Si的抗反射塗層中Si的含量可以達到40%，旋塗的有機碳（spin on carbon，SOC）中碳的含量達80%~90%。這種三層結構既能有效地減少曝光時的反射，又能提高刻蝕時的選擇性，因此被廣泛套用於45nm技術節點以下的光刻工藝中。三層材料返工的關鍵是SiARC，因為它含有矽，具有完全不同於一般光刻膠的分子結構。SiARC必須使用新的返工工藝。
