多層光刻膠

光刻膠是光刻工藝中使用的最關鍵的材料，多層光刻膠指在襯底上塗敷的光刻膠分成多層，然後使用該光刻膠進行曝光。

基本介紹

• 中文名：多層光刻膠
• 外文名：Multilayer Resist，MLR

多層光刻膠是針對單層光刻膠光刻工藝中所存在的一些缺點而發展起來的，使用多層光刻膠工藝進行光刻可以得到較好的解析度並且光刻後光刻膠的側面陡直，截面形狀近似為矩形。

在多層光刻膠中最常用的是三層光刻膠，其包括上層光刻膠層、中間介質層及下層光刻膠層，如圖1所示。

圖1 常用的多層光刻膠示意圖