基本介紹
- 中文名：光刻膠配方
- 外文名：resist formulation
光刻膠是曝光技術中重要的組成部分，而光刻膠配方起到了決定性作用。
選取合適的溶劑是光刻膠配方的重要工作，溶劑對光刻膠的性能有很大影響。溶劑選取的一個基本準則是聚合物在其中的溶解度，描述聚合物在有機溶劑的溶解度的理論是由Charles Hansen提出的，被稱為Hansen方法。Hansen方法使用四個物理參數來判斷聚合物在某個有機溶劑的溶解度，它們是色散、極性、氫鍵和相互作用的半徑，這四個物理參數的獲得並不容易，需要根據大量的實驗數據推得，實驗數據越多，推算得到的結果就越精確。表1是幾種聚合物的Hansen參數。與溶劑相比，聚合物的Hansen參數多一個相互作用的半徑。
表1 幾種聚合物的Hansen參數