“極紫外”是天文學專有名詞。來自中國天文學名詞審定委員會審定發布的天文學專有名詞中文譯名,詞條譯名和中英文解釋數據著作權由天文學名詞委所有。
基本介紹
- 中文名:極紫外
- 外文名:extreme-ultraviolet
- 定義:天文學專有名詞
- 縮寫:XUV; EUV
“極紫外”是天文學專有名詞。來自中國天文學名詞審定委員會審定發布的天文學專有名詞中文譯名,詞條譯名和中英文解釋數據著作權由天文學名詞委所有。
由於在科學實驗中,需要探測的原子或分子數量可能非常少,存在時間也非常短,普通的極紫外光源無法滿足這個需求,必須要有高亮度的極紫外光源,即極紫外雷射。...
“極紫外”是天文學專有名詞。來自中國天文學名詞審定委員會審定發布的天文學專有名詞中文譯名,詞條譯名和中英文解釋數據著作權由天文學名詞委所有。...
極紫外光刻(Extreme Ultraviolet Lithography),常稱作EUV光刻,它以波長為10-14納米的極紫外光作為光源的光刻技術。具體為採用波長為13.4nm 的紫外線。極紫外線就...
極紫外相機是搭載在嫦娥三號上的探測器,用在月球表面對地球的整個離子層進行成像觀測。由中國科學院長春光學精密機械與物理研究所研製。這是國際上首次在月球表面...
極紫外輻射(EUV)或高能紫外輻射是波長在124nm到10nm之間的電磁輻射,對應光子能量為10eV到124eV。自然界中,日冕會產生EUV。人工EUV可由等離子源和同步輻射源得到。...
極紫外光刻膠是指在極紫外光刻技術中所套用的光刻膠。...... 首先是產能,2015年極紫外管個科技的產能只有80片/每小時,這一性能必須提高至至少兩倍才能達到量產...
極紫外(EUV)反射鏡是使光的傳播方向發生偏轉的鏡子,在反射鏡表面鍍有Mo/Si多層膜結構,如圖1所示。...
極紫外線光刻機是晶片生產工具,是生產大規模積體電路的核心設備,對晶片工藝有著決定性的影響。小於5納米的晶片晶圓,只能用EUV光刻機生產。2018年4月,中芯國際向...
極紫外探險者衛星(EUVE)是美國發展的一種科學與技術試驗衛星。這顆由美國NASA研製的天文衛星,主要用於在極紫外波段(7~76nm)進行巡天觀測,繪製極紫外天圖。1992年...
極紫外相移掩模是指套用於極紫外光刻技術中的相移掩模。其基本原理是調節掩模上吸收層的光學參數(n、k、 d),使得吸收層具有一定的反射率。吸收層處反射光...
極紫外光刻機曝光系統主要由反射鏡構成的照明光學系統(illumination optics)和投影光學系統(projection optics)組成。 ...
幾乎所有的光學材料對13.5nm波長的極紫外光都有較強的吸收,因此極紫外光刻的掩模式反射式的。掩模表面反射的光包含由掩模上的圖形信息,實現曝光。...
在極紫外光刻(EUVL)中,由於光子的量子效應,入射在光刻膠上的光子數是起伏不定的,根據泊松定律,光子數的起伏值為√N(N為EUV中入射光子的平均數),被稱為極...
《軟Ⅹ射線與極紫外輻射的原理和套用》,作者阿特伍德,是2003年1月出版的圖書。...... 《軟X射線與極紫外輻射的原理和套用》由輻射、散射、波的傳播、衍射、相干...
極紫外套刻誤差是指極紫外光刻技術中的套刻誤差大小。...... 極紫外套刻誤差主要由三部分組成:曝光區域間的套刻誤差、曝光區域內部的套刻誤差和隨機項。不同曝光...
極紫外掩模缺陷是指在極紫外光刻技術中使用的掩模版上存在的缺陷總稱,比如襯底缺陷、基板缺陷等。...
書籍信息書名 雷射電漿極紫外光刻光源 書號 978-7-118-11793-6 作者 竇銀萍,宋曉偉,陶海岩 出版時間 2018年12月 譯者 版次 1版1次 開本 32 裝幀 平裝...
極紫外掩模需要定期清洗,去除表面的顆粒和污斑,包括吸附的碳、氧化的斑痕、有機物等。...
UV(ultraviolet)指的是紫外線,分為真空,短波,中波,長波,超長波四種。紫外線指的是電磁波譜中波長從 10nm~400nm 輻射的總稱,人們不能看到。1801 年德國物理學...
探測太陽紫外線的光學裝置。紫外線很容易被普通光學玻璃吸收,即使採用石英、氟化鋰等紫外光學材料磨製透鏡,也只能透過1000埃以上的輻射。因此,在紫外望遠鏡中,多採用...
紫外-可見分光光度法(Ultraviolet–visible spectroscopy,UV-Vis),又稱紫外-可見分子吸收光譜法,是以紫外線-可見光區域電磁波連續光譜作為光源照射樣品,研究物質分子...
紫外輻射是一種非照明用的輻射源。紫外輻射的波長範圍為10納米至400納米。由於只有波長大於100納米的紫外輻射,才能在空氣中傳播,所以人們通常討論的紫外輻射效應及其...
紫外線是電磁波譜中波長為 10~400納米 輻射的總稱,不能引起人們的視覺。1801 年德國物理學家裡特發現:在日光光譜的紫端外側一段能夠使含有溴化銀的照相底片感光,...
紫外曝光機,也稱光刻機、掩模對準曝光機、曝光系統、光刻系統等,是印刷線路板(PCB)製作工藝中的重要設備。一般的光刻工藝要經歷矽片表面清洗烘乾、塗底、旋塗光...
早在80年代,極紫外光刻技術就已經開始理論的研究和初步的實 驗,該技術 的光源是波 長為11~14 nm的極端遠紫外光,其原理主要是利用曝光光源極短的波長達到提高...