由於在科學實驗中,需要探測的原子或分子數量可能非常少,存在時間也非常短,普通的極紫外光源無法滿足這個需求,必須要有高亮度的極紫外光源,即極紫外雷射。
基本介紹
- 中文名:極紫外光
特點
如何輸出
作用
成就
“大連光源”是中國第一台大型自由電子雷射科學研究用戶裝置,是當今世界上唯一運行在極紫外波段的自由電子雷射裝置,如今也是世界上最亮的極紫外光源。
由於在科學實驗中,需要探測的原子或分子數量可能非常少,存在時間也非常短,普通的極紫外光源無法滿足這個需求,必須要有高亮度的極紫外光源,即極紫外雷射。
極紫外(EUV)光源主要有兩種:一種是用放電產生的電漿來發射EUV光子(discharge-produced plasma,DPP);另一種是用雷射激發的等離子來發射EUV光子(laser-produced ...
由於在科學實驗中,需要探測的原子或分子數量可能非常少,存在時間也非常短,普通的極紫外光源無法滿足這個需求,必須要有高亮度的極紫外光源,即極紫外雷射。...
極紫外光刻(Extreme Ultraviolet Lithography),常稱作EUV光刻,它以波長為10-14納米的極紫外光作為光源的光刻技術。具體為採用波長為13.4nm 的軟x 射線。極紫外...
極紫外線光刻機是晶片生產工具,是生產大規模積體電路的核心設備,對晶片工藝有著決定性的影響。小於5納米的晶片晶圓,只能用EUV光刻機生產。2018年4月,中芯國際向...
極紫外光學鄰近效應修正是套用於極紫外光刻中的光學鄰近效應修正技術。...... 極紫外光學鄰近效應修正是套用於極紫外光刻中的光學鄰近效應修正技術。中文名 極紫外光...
極紫外相移掩模是指套用於極紫外光刻技術中的相移掩模。其基本原理是調節掩模上吸收層的光學參數(n、k、 d),使得吸收層具有一定的反射率。吸收層處反射光...
幾乎所有的光學材料對13.5nm波長的極紫外光都有較強的吸收,因此極紫外光刻的掩模式反射式的。掩模表面反射的光包含由掩模上的圖形信息,實現曝光。...
極紫外干涉儀是光源為極紫外光段波長的干涉儀。...... 極紫外干涉儀的基本原理是:兩個極紫外光束對稱的照在有周期圖形的掩模版上,衍射光相互干涉,在晶圓表面形成...
書籍信息書名 雷射電漿極紫外光刻光源 書號 978-7-118-11793-6 作者 竇銀萍,宋曉偉,陶海岩 出版時間 2018年12月 譯者 版次 1版1次 開本 32 裝幀 平裝...
《軟Ⅹ射線與極紫外輻射的原理和套用》,作者阿特伍德,是2003年1月出版的圖書。...... 《軟X射線與極紫外輻射的原理和套用》由輻射、散射、波的傳播、衍射、相干...
極紫外光刻( EUVL: Extreme Ultraviolet Lithography )原理實驗早在 80 年代由日本 H. Kinoshita 提出並驗證, EUVL 利用波長 13.5nm 或 11.2nm 光源( Mo/Si...
提高光刻技術解析度的傳統方法是增大鏡頭的NA或縮 短波長,通常首先採用的方法是縮短 波長。早在80年代,極紫外光刻技術就已經開始理論的研究和初步的實 驗,該技術...
在極紫外光刻及輻射計量等領域有著重要套用價值和廣闊的發展前景。 原理 二氧化碳雷射脈衝經過放大、整形並對焦後,進入雷射激發等離子型真空室。雷射脈衝非常精準地擊...
( 18 ) 用於雷射電漿極紫外光刻光源純化濾波裝置, 發明, 2015, 第 2 作者, 專利號: ZL201310093540.4( 19 ) 正弦相位調整器峰值延遲量的標定裝置和標定...
光場時-頻域的精密控制實驗研究平台 極端超快精密光譜學實驗研究平台 極紫外光學頻率梳及超短波段精密光譜實驗研究平台 基於時-頻域精密操控的量子調控實驗研究...
在光刻過程中使用了多重圖形曝光增強了製作圖形的密度。 儘管極紫外光刻將在下一代光刻中作為一個選項,但是這個仍然需要額外一次曝光。...
第11章 軟X射線與極紫外光第3篇 幾何光學第12章 幾何光學基礎第13章 透鏡成像系統第14章 光學儀器的基本原理參考資料 1. 光學原理與套用 .豆瓣[引用日期2017-...