極紫外光刻機曝光系統

極紫外光刻機曝光系統主要由反射鏡構成的照明光學系統（illumination optics）和投影光學系統（projection optics）組成。

基本介紹

• 中文名：極紫外光刻機曝光系統
• 外文名：Exposure System of Extreme Ultraviolet Scanner

極紫外光刻機曝光系統如圖1所示，圖中分別畫出了極紫外(EUV)光源、光照光學系統、投影光學系統等。光源發出的13.5nm波長的光線被吸收後，通過幾個反射鏡，形成所需要的光照方式，照射在掩模上。這一組放置在光源和掩模版之間的反射鏡稱為照明光學系統。掩模版也是反射式的，從掩模反射出的光包含了掩模上圖形的信息，它通過另一組反射鏡投影在晶圓上，實現曝光。這一組放置在掩模版和晶圓之間的反射鏡稱為投影光學系統。

圖1 極紫外光刻機曝光系統示意圖