為評估極紫外掩模上缺陷情況，檢測其空間像，業界專門研發了極紫外空間像顯微鏡（aerial image metrology system，AIMSTM），或者叫EUV顯微鏡（EUV Microscope）。 基本介紹 中文名：極紫外空間像顯微鏡外文名：EUV Microscope 極紫外空間像顯微鏡的光學系統與光刻機類似，只是其曝光的像投影在一個CCD相機上，而不是在晶圓上。AIMS可以檢測16nm半周期技術節點（或7nm邏輯技術節點）使用的EUV掩模，其數值孔徑範圍為0.25~0.33。極紫外光線通過一個狹縫透射在反射鏡上A，反射鏡A使光線折轉照射在另一個反射鏡B上。經反射鏡B折轉後，極紫外光線再經反射鏡C反射到掩模表面。反射鏡C通常是一個離軸的橢球反射鏡，可使光線在離軸19°的範圍內照射在掩模上。光線在掩模表面反射後經過一個波帶片陣列被CCD相機接收，波帶片陣列安裝在距離掩模約幾百微米處的一個可以沿著三維移動的工件台上。波帶片的作用是把放大了的掩模直接透射到CCD相機。
