極紫外光刻散粒噪聲

在極紫外光刻（EUVL）中，由於光子的量子效應，入射在光刻膠上的光子數是起伏不定的，根據泊松定律，光子數的起伏值為√N（N為EUV中入射光子的平均數），被稱為極紫外光刻散粒噪聲（EUVL shot noise）。

基本介紹

• 中文名：極紫外光刻散粒噪聲
• 外文名：Extreme Ultraviolet lithography（EUVL） shot noise

散粒噪聲導致曝光能量的相對起伏是1⁄√N，即入射的光子數越少，對應曝光能量的起伏越明顯。由於EUV光子的能量遠高於193nm的光子，散粒噪聲導致的曝光能量起伏在極紫外光刻（EUVL）中必須考慮。

對於極紫外光刻來說，光子散粒噪聲對局部線寬均勻性（LCDU）的影響是一個非常嚴重的問題。隨著線寬的不斷縮小，局域的曝光能量會很小，光子數起伏導致的曝光能量起伏就非常明顯。