X螢光光譜測量系統

X螢光光譜測量系統

X螢光光譜測量系統是一種用於地球科學、材料科學、核科學技術、環境科學技術及資源科學技術領域的分析儀器,於2010年11月9日啟用。

基本介紹

  • 中文名:X螢光光譜測量系統
  • 產地:中國
  • 學科領域:地球科學、材料科學、核科學技術、環境科學技術及資源科學技術
  • 啟用日期:2010年11月9日
  • 所屬類別:分析儀器 > X射線儀器 > X射線螢光光譜儀
技術指標,主要功能,

技術指標

≥500道,4KW,160mA/60KV。

主要功能

對礦物樣品、合金樣品、土壤樣品、等固體樣品以及液體樣品進行物質成分分析。

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