電子束蒸發系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2015年8月25日啟用。
基本介紹
- 中文名:電子束蒸發系統
- 產地:中國台灣
- 學科領域:材料科學
- 啟用日期:2015年8月25日
- 所屬類別:工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 電真空器件工藝實驗設備
電子束蒸發系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2015年8月25日啟用。
電子束蒸發系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2015年8月25日啟用。技術指標 極限真空:5.98E-5Pa;排氣時間:2.01E-4Pa(14min),1.45E-4Pa(29min);基板加熱溫度:MAX300℃;膜厚均勻性:片內3.66%,片間4.54%,...
超高真空電子束蒸發系統是一種用於信息科學與系統科學、物理學、工程與技術科學基礎學科領域的工藝試驗儀器,於2018年11月30日啟用。技術指標 電子束蒸發腔室和氧化腔室極限真空度≤5*10-9 Torr;最大支持尺寸≥4英寸;電子束蒸發腔室...
磁控濺射電子束蒸發系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器,於2012年8月31日啟用。技術指標 極限真空≤5.0E-5Pa(經烘烤除氣後),襯底固定4襯底固定,可放置4片10×10cm2方形樣品,。主要功能 電子束蒸鍍(Electron Beam ...
電子束蒸發鍍膜系統是一種適合於前沿研究的金屬薄膜製備技術也是一種用於納米技術研究的有效方法。典型的電子束蒸發鍍膜系統套用是在各種尺寸和形狀的基底上沉積各種金屬薄膜。它主要套用微納加工金屬薄膜製備,在電子信息、納米科技、材料科學...
超高真空電子束多腔蒸發鍍膜系統是一種用於物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2013年11月6日啟用。技術指標 蒸發室和氧化室真空度可以達到1E-9 Torr的級別。生長的鋁膜製備的共面波導超導諧振腔的Q值平均值為50萬。主要功能 電子...
離子輔助電子束蒸發鍍膜系統是一種用於物理學領域的海洋儀器,於2016年11月10日啟用。技術指標 六類四對非禁止雙絞線,305米/箱 六類模組化配線架-24口 六類跳線3米 機架式理線架-1U 多模OM3光纖跳線-3米LC雙工 多模OM3室內光纜-...
電子束蒸發真空薄膜沉積系統 電子束蒸發真空薄膜沉積系統是一種用於信息科學與系統科學、物理學領域的計算機及其配套設備,於2017年12月7日啟用。技術指標 380v,立式。主要功能 測量用。
高真空蒸發系統是一種用於物理學、電子與通信技術、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2017年9月28日啟用。技術指標 電子束蒸發源:8kW,2MHz 晶圓尺寸:最大6英寸 真空度:10E-7Torr 蒸發物料:Ti、Au等 典型沉積速率:0.1-10A/s ...
雙電子束蒸鍍系統 雙電子束蒸鍍系統是一種用於電子與通信技術領域的電子測量儀器,於2012年05月02日啟用。技術指標 電子束蒸發源;40CC*4/電子槍:10KW,5KW。主要功能 雙電子束蒸鍍系統。
蒸發材料盛在坩堝內,加熱器通過坩堝對材料加熱蒸發。蒸發 蒸發主要有電子束蒸發、多源蒸發、瞬時蒸發、雷射蒸發和反應蒸發等方法。①電子束蒸發:在5~10千伏/厘米電場下使電子束加速,並通過電子透鏡使電子束聚焦,使坩堝中蒸發材料的...
高真空電子束蒸發鍍膜是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2018年12月14日啟用。技術指標 1.真空腔室:要求採用304不鏽鋼材質,尺寸不小於Φ565×H618mm;配方便拆卸的防污板;真空腔體整體水冷優良;2.真空系統:主泵採用具有不低於1700...
電子束熱蒸發鍍膜機是一種用於物理學、材料科學、機械工程領域的計量儀器,於2015年1月27日啟用。技術指標 腔體尺寸:600mm(直徑)×700mm(高);前級乾泵加低溫泵真空系統,30分鐘以內抽進10-4Pa,極限真空小於5x10-5Pa;樣品托盤6寸...
複合型蒸發系統是一種用於信息科學與系統科學、物理學、工程與技術科學基礎學科、材料科學領域的工藝試驗儀器,產地為日本,於2013年8月9日啟用。技術指標 極限真空度≤1x10-5 Pa ;6個電子束蒸發工位,2個舟型熱蒸發工位;襯底採用紅外...
功率:8KW;。主要功能 保證電阻熱蒸發室和電子束蒸發室均在手套箱內,樣品可在氮氣環境中傳遞,避免暴露大氣。實現對水氧敏感器件的製作。包括有機層的蒸鍍,金屬電極的蒸鍍,器件的封裝。如OLED,太陽能電池等的製作和封裝。