鍍膜設備

鍍膜設備是一種用於材料科學領域的科學儀器，於2010年12月17日啟用。

基本介紹

• 中文名：鍍膜設備
• 產地：中國
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2010年12月17日

技術指標

樣品顆粒粒度：3μm~100μm。

主要功能

能夠在微顆粒表面沉積各種金屬薄膜（包括磁性金屬膜）、金屬氧化物薄膜、金屬氮化物薄膜及合金薄膜，且所鍍薄膜緻密、均勻、純度高、附著力強等。