磁過濾多弧磁控鍍膜設備

磁過濾多弧磁控鍍膜設備是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器，於2016年7月8日啟用。

基本介紹

• 中文名：磁過濾多弧磁控鍍膜設備
• 產地：中國
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2016年7月8日
• 所屬類別：工藝試驗儀器

技術指標

1.工作空間：φ350mm×H400mm 2.極限真空：6.67×10-5Pa； 3.加熱溫度：室溫-500℃； 4.主要配置：2套普通多弧靶，2套新型多弧靶，靶材直徑φ100mm；2套矩形磁控靶，靶材尺寸：L500mm×W80mm×δ8mm。

主要功能

具有磁過濾多弧離子鍍膜功能和磁控濺射鍍膜功能，專用於工模具的高端硬質塗層及油氣工程材料的防腐耐磨塗層的研製。