真空鍍膜設備通用技術條件

《真空鍍膜設備通用技術條件》是2012年3月1日實施的一項中國國家標準。

基本介紹

• 中文名：真空鍍膜設備通用技術條件
• 外文名：Vacuum coating plant generic specification
• 標準類別：基礎
• 標準號：GB/T 11164-2011

編制進程

2011年11月21日，《真空鍍膜設備通用技術條件》發布。

2012年3月1日，《真空鍍膜設備通用技術條件》實施。

起草工作

主要起草單位：北京北儀創新真空技術有限責任公司、上海曙光機械製造廠有限公司、蘭州真空設備有限責任公司、成都南光機器有限公司、中國航天科技集團第五研究院510研究所等。

主要起草人：陳月增、謝鈞榮、范立群、孫凱、溫發蘭等。