超高真空表面分析系統

超高真空表面分析系統是一種用於化學領域的分析儀器，於2012年3月15日啟用。

基本介紹

• 中文名：超高真空表面分析系統
• 產地：中國
• 學科領域：化學
• 啟用日期：2012年3月15日
• 所屬類別：分析儀器 > 電子光學儀器 > 透射電鏡

技術指標

PHOIBOS 100 多通道能量分析器技術指標： 100mm平均分析半徑；安裝法蘭為DN100CF； Ag3d5/2計數率/FWHM＞1.7 Mcps/0.85 eV,＞4.6 Mcps/1.00 eV, ＞12 Mcps/1.40 eV （300W MgKa，陽極-樣品間距＜15 mm）。 XR 50 X射線源技術指標： 安裝法蘭為DN 40CF；300W Mg靶和400W Al 靶；可烘烤至250℃。 Aarhus STM 150 技術指標： 安裝法蘭為DN 150CF；樣品溫度90 -400 K；熱漂移（120 K＜T＜RT）＜0.05 nm/min （縱向），＜0.15 nm/min（橫向）； 穩定度＜5 pm。 。

主要功能

X射線光電子能譜儀可分析樣品表面（1個原子層至10nm厚度範圍）化學成分及元素化合價態。STM可用於多種無機（包括半導體、高溫超導體、金屬、磁性、氧化物等）單晶塊材、外延薄膜的表面結構分析，而XPS的測試對象除了前述的各種無機材料外也可分析有機高分子材料的成分及其原子價態。在材料學、表面科學、凝聚態物理學、化學化工、能源環保等諸多領域都有著廣泛的用途。