表面微觀分析系統是一種用於化學領域的分析儀器，於2016年9月5日啟用。
表面微觀分析系統是一種用於化學領域的分析儀器，於2016年9月5日啟用。技術指標放大倍數：20×-100,000×解析度：優於18nm,電子槍：1500小時CeB6燈絲 抽真空時間：10秒 加速電壓：5 / 10 /15...
表面分析系統包括x射線光電子能譜（XPS）儀和紫外光電子能譜（UPS）儀，利用表面分析系統，可從原子層面上分析陰極材料的淨化效果，分析激活前後陰極表面原子的構成和排列，進而可較深入地研究陰極的激活機制和NEA特性的形成機制。下面簡單介紹激活評估實驗系統中的表面分析子系統：x射線光電子能潛（XPS）儀採用的是...
新型掃描俄歇電子顯微鏡，可觀察試樣表面深度為10埃以內的元素分布圖像,解析度達500埃。適用於除氫、氮以外的各種元素,用於原子序數為3～10的輕元素。在鋼鐵、有色金屬、玻璃、陶瓷等材料的表面物理、表面化學研究工作中得到套用。光學顯微術 套用光學顯微鏡觀測材料微觀形貌、物相的技術。新型光學顯微鏡由光源系統、載物...
表面形貌分析儀是一種用於信息科學與系統科學、物理學、工程與技術科學基礎學科、材料科學領域的工藝試驗儀器，於2013年1月8日啟用。技術指標 Z方向範圍: 0-327μm，精度≤0.1 nm ；台階高度重現性≤0.6nm； 探針半徑2um，壓力0.5 - 50mg可調、可恆定壓力控制 單次掃描長度最大80mm； 8英寸樣品台，定位精度...
它的缺點是分光晶體接受X射線的立體角小，X射線的利用率低；此外,試樣要求象金相試樣那樣表面平正光潔，不能分析凸凹不平的試樣。電子探針(electron microprobe,簡寫為EMP)就是由幾個電磁透鏡組成的照明系統與 X射線波譜儀結合在一起的微束分析儀器，電子束焦斑直徑一般是0.1～1m。將金相試樣置於電子探針儀中，用...
對材料的微觀力學進行原位表征，在複合材料的配方設計和工藝調控階段提供不同微觀結構和載荷條件下的表面硬度、附著力、楊氏模量、摩擦力、磨耗量等性能的微觀原位測試工作。設備在測試材料微觀力學性質的同時可以通過成像系統獲得原位的材料表面形貌信息，用於材料表面微觀力學原位表征和分析，並且具有極高的穩定性和可重複...
