超高真空磁控濺射系統

超高真空磁控濺射系統是一種用於物理學領域的分析儀器，於2008年11月10日啟用。

基本介紹

• 中文名：超高真空磁控濺射系統
• 產地：中國
• 學科領域：物理學
• 啟用日期：2008年11月10日
• 所屬類別：分析儀器 > 顯微鏡及圖象分析儀器 > 掃描探針顯微鏡
• 真空度：10^(-5)Pa

技術指標

真空度10^(-5)Pa。

主要功能

實現單晶，多晶，單層，多層的薄膜的製備。