表面三維形貌儀是一種用於數學領域的計量儀器,於2008年1月1日啟用。
基本介紹
- 中文名:表面三維形貌儀
- 產地:美國
- 學科領域:數學
- 啟用日期:2008年1月1日
- 所屬類別:計量儀器
表面三維形貌儀是一種用於數學領域的計量儀器,於2008年1月1日啟用。
表面三維形貌儀是一種用於數學領域的計量儀器,於2008年1月1日啟用。技術指標放大倍數為25倍、100倍、500倍垂直掃描範圍:30 μm 、100μm、5mm、10mm 垂直掃描解析度:0.01nm解析度:752×48...
表面三維形貌分析儀是一種用於化學領域的分析儀器,於2017年1月1日啟用。技術指標 1、解析度:二維解析度要求達到0.12微米。垂直解析度0.01微米。 2、雷射光源:採用405nm短波長半導體雷射,壽命≥10000小時;雙光路共焦系統。 3、放大倍數108倍——17000倍。 4、精度要求:XY方向測量準確度要求:測量值的±2%以內...
3D形貌測量儀是一種用於工程與技術科學基礎學科領域的儀器,於2011年12月5日啟用。技術指標 測量範圍:100mm×100mm×100mm; 最大縱向解析度:10nm; 配置360度轉軸,可掃描物體的整體3D模型進行分析測量。主要功能 微觀幾何形狀尺寸測量,幾何結構參數無損測量。微觀表面形貌分析,微觀表面平面度、粗糙度、面...
自動變焦三維表面形貌儀是一種用於工程與技術科學基礎學科領域的分析儀器,於2014年5月8日啟用。技術指標 位移範圍(X、Y、Z軸):100×100×100mm 樣品表面結構:表面形貌Ra>10-15nm,Lc=2µm 最大掃描面積:10000mm2 最小測量粗糙度(Ra):30nm。主要功能 表面形貌測量、粗糙度測量、表面紋理測量、體積測量...
三維非接觸式表面形貌儀 三維非接觸式表面形貌儀是一種用於材料科學、礦山工程技術、冶金工程技術、機械工程領域的工藝試驗儀器,於2007年01月06日啟用。技術指標 50X、10X、2.5X解析度:752X480像素、1000X1000像素、Z軸方向解析度5nm。主要功能 機械測量。
30um(100X物鏡) 0.04um(100x物鏡,2倍zoom) 掃描速度 最大96um/s 台階測量 線性度 重複性≤0.1% 小於20nm或者0.1%。主要功能 三維表面形貌測試系統主要用於自動測量樣品的二維、三維表面形貌、表面粗糙度、關鍵尺寸(包括高度、孔洞深度、長度等)、關鍵部位的面積和體積等所有的ISO表面參數。樣品粗糙度測量。
自動變焦三維表面測量儀是一種用於機械工程領域的科學儀器,於2017年4月21日啟用。技術指標 1.產品功能:(1)產品測量方式採用面掃描方式,符合ISO25178-6標準;(2)表面三維形貌測量;(3)線粗糙度測量;(4)面粗糙度測量;(5)二維尺寸形狀測量;(6)體積,面積測量;(7)Real3D測量,全自動測量圓柱試樣...
三維光干涉形貌儀是一種用於機械工程領域的計量儀器,於2016年06月12日啟用。技術指標 視場:標準配置:0.04-16mm,跟物鏡和放大倍率有關,運用圖像拼接技術可以得到更大範圍 視場放大倍率:高質量分立放大倍率鏡頭:2.5X,10X,50X(標配) 光源:均勻成像,高效率,特殊設計長壽命白光LED 物鏡座標配:可快速裝卸單...
三維光學干涉形貌儀 三維光學干涉形貌儀是一種用於航空、航天科學技術領域的物理性能測試儀器,於2007年10月17日啟用。技術指標 高度解析度:0.1 A。主要功能 表面微觀形貌測試。
於2018年12月31日啟用。技術指標 測量光束直徑:6″;光路:菲索型,共光路;快速條紋採樣系統(QFAS) (雙光點定位於十字線);光學中心線:4.25″(108mm);雷射光源:氦-氖雷射,Ⅲa級;成像解析度優於 :1024x1024;。主要功能 用於精密微納器件或元件表面輪廓、表面形貌以及表面平整度測量。
於2013年11月12日啟用。技術指標 接觸式橫向掃描範圍:150mm(3D掃描範圍150mm×150mm)大尺寸納米級平整測量平台:150mm×150mm接觸式最大樣品高度:50mm(或100mm)光學膜厚測量厚度範圍:1nm-100um光學厚度解析度:0.1nm光學厚度重複性:0.3nm。主要功能 測定表面膜厚度和形貌。
三維輪廓儀是一種用於信息科學與系統科學、電子與通信技術領域的電子測量儀器,於2015年12月24日啟用。技術指標 1、三軸移動方式:xy軸為電動控制,z軸為自動控制;2、測量點陣解析度:1360*1024pixels;3、四種光源;4、同時具備共聚焦、白光干涉、相位差干涉三種測量模式;5、高度測量:達到40mm(standard);6、xy...
於2013年1月8日啟用。技術指標 Z方向範圍: 0-327μm,精度≤0.1 nm ;台階高度重現性≤0.6nm; 探針半徑2um,壓力0.5 - 50mg可調、可恆定壓力控制 單次掃描長度最大80mm; 8英寸樣品台,定位精度2um。主要功能 用於樣品表面的兩維和三維形貌,厚度,表面粗糙度,薄膜應力測量。
三維白光干涉形貌儀是一種用於數學領域的計量儀器,於2016年07月01日啟用。技術指標 XYZ行程:200mmX200mmX100mmRMS重複精度:0.005nm垂直掃描範圍:0-20mm垂直掃描解析度:1nm最大縱向掃描速度:96um/secRa測量精度:≤0.1nm反射率要求:0.05%-100%顯微鏡鏡頭:2.75X,10X,50X,100X。主要功能 非接觸式形貌...
縱向解析度:0~150um範圍內≤0.1nm 2、擴展掃描範圍:150um~15mm(步進電機掃描) 3、基於2技術要求的全部範圍和條件下,測試能力要求達到:可測量超光滑表面,Ra測試精度≤0.1nm,可測量表面類型:透明、不透明;鍍膜、非鍍膜;反射、低反射。主要功能 測量顯示樣品二維或三維形貌,測量粗糙度,測量台階高度。
三維非接觸式光學表面輪廓儀 三維非接觸式光學表面輪廓儀是一種用於物理學領域的物理性能測試儀器,於2014年12月10日啟用。技術指標 垂直測量範圍27mm 垂直解析度2nm X-Y掃描速度20mm/s。主要功能 各種化學電源的電極、催化劑和關鍵膜材料的表面形貌、粗糙度、表面面積、分形維數等對電源的性能有影響的數據。
表面形貌儀 表面形貌儀是一種用於材料科學領域的計量儀器,於2007年12月12日啟用。技術指標 1.重複性7.5? 2.最大測量範圍80mm 3.垂直測量範圍327um 4.垂直解析度13um,0.01 ? 5.垂直解析度64um, 0.04? 6.垂直解析度327um,0.2?。主要功能 該儀器用於有機高分子發光顯示屏的表面形貌測試。
光學式形貌測量儀 光學式形貌測量儀是一種用於物理學、生物學、基礎醫學、材料科學領域的計量儀器,於2010年2月14日啟用。技術指標 Z Range:2.2mm after stiching>10mm Resolution:0.01nm。主要功能 通過光學的方法,非接觸測量樣品的三維表面形貌。
形貌測量儀是一種用於動力與電氣工程領域的儀器,於2010年9月2日啟用。技術指標 測量範圍:小於等於100 mm 干涉儀感測器解析度: 1020×1024 像素 測量結果: PV重複精度:1/1000λ RMS 重複精度:1/3000λ 測量精度:1/20λ(校準面的精度1/20λ)。主要功能 該設備為曼格林相移式數字波面干涉儀,體積小,重量...