磁控真空離子鍍膜設備是一種用於化學領域的科學儀器，於2017年5月19日啟用。
基本介紹
- 中文名：磁控真空離子鍍膜設備
- 產地：中國
- 學科領域：化學
- 啟用日期：2017年5月19日
技術指標,主要功能,
技術指標
全不鏽鋼真空室，可以實現濺射和陰極弧源鍍膜。
主要功能
可以製備各類金屬、非金屬的功能性薄膜。
磁控真空離子鍍膜設備
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